Graphedin Structures Simultaneously Doped with Boron and Nitrogen in One Layer
محل انتشار: مجله مهندسی در تحقیقات صنعتی، دوره: 2، شماره: 2
سال انتشار: 1400
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 411
فایل این مقاله در 8 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
JR_JEIR-2-2_001
تاریخ نمایه سازی: 7 آذر 1400
چکیده مقاله:
In this study, graphene structures simultaneously doped with boron and nitrogen in a single layer are investigated. And optimized. Finally, the best graphedine structures doped with a boron atom and a nitrogen atom were determined. In pure Graddine PDOS and DOS diagrams, only the p-orbitals play a major role around the Fermi region. In fact, the peaks around the Fermi region correspond to the p orbitals in the guide bar and the capacity bar. In general, capacitance and conduction bands are bands close to the Fermi level and determine the amount of electrical conductivity in solids. In the pure bilayer graphene strip structure, the zero Fermi energy level is in the energy gap range. The energy gap is completely open in the entire Brillouin area, and at the point of the direct energy gap a magnitude (eV) of ۰.۱۴۱ is seen. If the energy gap values are classified according to conductivity, semiconductor and insulation, pure two-layer graphite can be considered a semiconductor with direct energy gap. If the energy gap is zero electron volts, matter is conductive.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
Andi Brous
Department of Research and Development, UOP, Texas, U.S.A
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :