بررسی تاثیر دمای بازپخت روی چگالی اپتیکی، توپوگرافی و خواص ساختاری سطح لایه های اکسید روی و اکسید روی تزریق شده با آلومینیوم

سال انتشار: 1400
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: فارسی
مشاهده: 400

فایل این مقاله در 12 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

JR_IJCSE-10-1_005

تاریخ نمایه سازی: 19 مرداد 1400

چکیده مقاله:

لایه های مختلف اکسید روی و اکسید روی تزریق شده با آلومینیوم با استفاده از روش کندوپاش مغناطیسی با فرکانس رادیویی در دمای اتاق بر روی لایه های شیشه ای ساخته شدند. لایه ها در یک کوره الکتریکی با حضور گاز آرگون در سه دمای مختلف ۴۰۰، ۵۰۰ و ۶۰۰ درجه سانتی بازپخت شدند. مقدار چگالی اپتیکی اکسید روی نسبت به اکسید روی تزریق شده با آلومینیوم بیشتر است. مقادیر اندازه عرضی نانو ذرات برای لایه های اکسید روی با افزایش دمای بازپخت، افزایش یافتند.  لایه های اکسید روی بازپخت شده در دمای ۴۰۰ درجه سانتی گراد دارای کمترین مقدار اندازه عرضی نانو ذرات در حدود ۵۹/۲۲ نانومتر هستند. لایه های اکسید روی تزریق شده با آلومینیوم و بازپخت شده در دمای ۶۰۰ درجه سانتی گراد دارای بیشترین مقدار اندازه عرضی نانو ذرات در حدود ۴۱/۳۴ نانومتر هستند. تغییرات ارتفاع سطح روبش شده لایه ها نشان دادند که لایه  اکسید روی در دمای اتاق دارای یک جهش تند ۲۵ نانومتر می باشد. همچنین لایه اکسید روی تزریق شده با آلومینیوم در دمای ۶۰۰ درجه سانتی گراد دارای فراز و نشیب کمتری نسبت به بقیه دماها دارا می باشد و ارتفاع حول ۶ نانومتر است. باافزایش دمای بازپخت مقادیر ابعاد فراکتالی لایه های اکسید روی کاهش می یابد.

کلیدواژه ها:

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • Dejam, L., Elahi, S. M., Nazari, H. H., Elahi, H., ...
  • Talu, S., Bramowicz, M., Kulesza, S., Shafiekhani, A., Ghaderi, A., ...
  • Matsumura, M., Camata, R. P., “Pulsed laser deposition and photoluminescence ...
  • Minami, T., Nishi, Y., Miyata, T., “Effect of the thin ...
  • Chow, L., Lupan, O., Chai, G., Khallaf, H., Ono, L.K., ...
  • Zhang, L., Jin, K., Li, S. Wang, L., Zhang, Y., ...
  • Jiang, X., Wong, F.L., Fung, M.K., Lee, S.T., “Aluminum-doped zinc ...
  • Masui, H., Nakamura, S., Den Baars, S.P., Mishra, U.K., “Nonpolar ...
  • Natsuhara, H., Matsumoto, K., Yoshida, N., Itoh, T., Nonomura, S., ...
  • Lee, J., Lee, D., Lim, D., Yang, K., “Structural, electrical ...
  • Lin, Y., Chen, M., Kuo, C., Yen, W., “electrical and ...
  • Wange, X. J., Lei, Q. S., XU, W., ZHOU, W., ...
  • Masuda, Y., Yamagishi, M., Seo, W. S., Koumoto, K., “Photoluminescence ...
  • Lu, F., Xu, C. H.,Wen, L. S., “Analysis on the ...
  • Baca, R., Juárez, G., Solache, H., Andraca, J., Martinez, J., ...
  • Sivakumar, K., Rossnagel, S. M., “Deposition of aluminum-doped zinc oxide ...
  • Jimenez-Gonzalez, A. E., Soto Urueta, J. A., Suarez-Parra, R. J., ...
  • Shakeri Shamsi, M., Ahmadi, M., Sabet, M., “Al Doped ZnO ...
  • Balu, A. R.,“CdO thin films fabricated by a simplified spray ...
  • Mondelaers, D., Vanhoyland, G., van den Rul, H. et al. ...
  • Jun, M.C., Koh, J. H., “Effects of NIR annealing on ...
  • Kim, I., Kim, Y., Nam, G., Kim, D., Park, M., ...
  • Zhu, Q., Xu, X., Meng, M., Yang, F., Guo, J., ...
  • Minemoto, T., Hashimoto, Y., Satoh, T., Negami, T., Takakura, H., ...
  • Liu, D. S., Wu, C. C., Lee, C. T., “A ...
  • Lin, J., Fu, W., Jing, L., Qu , Y. C., ...
  • Tominaga, K., Umezu, N., Mori, I., Ushiro, T., Moriga, T., ...
  • Qi, X., Zhang, SY., Mi, XB., Liu, X. J., “Theoretical ...
  • Hassanien, A.S., Akl, A.A., “Effect of Se addition on optical ...
  • Raftari, B., Budko, N. V., Vuik, C., “Self-consistent drift-diffusion-reaction model ...
  • Dalouji, V., Goudarzi, S., Solaymani, S., “The optical density and ...
  • Rahimi, N., Dalouji, V., Souri, A., “Studying the Optical Density, ...
  • نمایش کامل مراجع