طراحی روش تولید مدار میکرواستریپ ازپلی ایمیدها

دراین تحقیق به بررسی رفتار وابسته پلی ایمیدها برای ساخت میکرواستریپ وزیرساختارهای میکرو استریپ پرداخته شده است.به همین منظور کاربرد پلی ایمیدها و خواص آنها درساخت MEMS ارتباط بین ویژگی پلی ایمیدها و ریزساختارها مشخص شده است و توسعه فرآیند لیتوگرافی نوری و تکنولوژیهای تولید میکروساختارها برای دستگاه پلیمری مورد آزمایش قرار گرفته است. مشخص شدن مسیر نیاز است برای رسیدن به هدف که همان نتیجه مطلوب است. پس از طراحی مجموعه آزمایش ها مناسب و اجرا آنها این تحقیق دو نوع پوشش دهنده مثبت و منفی ارائه کرده است؛ که پوشش دهنده مثبت و منفی با استفاده ازدستگاه لیزری بادقت بالا در ابعاد ۱×۱به عنوان مقایس جهت اندازه گیریی مورد استفاده قرار گرفته است. درهر دونوع ماده - پوشش دهنده مثبت و منفی با تاثیر پارامترها سرعت دوران ، غلظت مایع و نوع ماده پوششدهی تاثیری در ضخامت لایه ایجاد شده ندارد. لذا باتوجه به فرآیند ساختار میکرواستریپ و با نمونه به کاربردشده درآزمایش چهت پیش بینی میزان و تعیین بهترین شرایط میکرو ساختارها و بررسی اثر پارامترها درفرآیندهای مختلف بر رفتار قبل از تولید و صرف هزنیه استفاده گردد. بنابراین پوشش دهنده مثبت شرایط مناسب و مطلوب را فراهم کرده است.

کلیدواژه ها:

میکرواستریپ ، پلی ایمیدها ، لیتوگرافی نوری ، پوشش دهی