ناشر تخصصی کنفرانس های ایران

لطفا کمی صبر نمایید

Publisher of Iranian Journals and Conference Proceedings

Please waite ..
ناشر تخصصی کنفرانسهای ایران
ورود |عضویت رایگان |راهنمای سایت |عضویت کتابخانه ها
عنوان
مقاله

بررسی عددی و بهینه سازی پارامتر های موثر بر برج جذب اتیلن اکسید با استفاده از روش پاسخ سطح(RSM)

سال انتشار: 1400
کد COI مقاله: CCES12_011
زبان مقاله: فارسیمشاهده این مقاله: 86
فایل این مقاله در 11 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

خرید و دانلود فایل مقاله

با استفاده از پرداخت اینترنتی بسیار سریع و ساده می توانید اصل این مقاله را که دارای 11 صفحه است به صورت فایل PDF در اختیار داشته باشید.
آدرس ایمیل خود را در کادر زیر وارد نمایید:

مشخصات نویسندگان مقاله بررسی عددی و بهینه سازی پارامتر های موثر بر برج جذب اتیلن اکسید با استفاده از روش پاسخ سطح(RSM)

شایان خائیز - کارشناسی ارشد مهندسی شیمی، دانشگاه صنعت نفت
رضا انتظاری - رئیس واحد بهره برداری، شرکت پارس گلایکول
محمدرضا روزبهی - کارشناسی ارشد مهندسی شیمی، دانشگاه صنعت نفت

چکیده مقاله:

در فرایند تولید اتیلن اکسید، اتیلن با اکسیژن در راکتور واکنش می دهد تا اتیلن اکسید و محصولات جانبی به همراه مواد واکنش نداده از راکتور خارج شوند. این جریان به قسمت بازیافت اتیلن اکسید فرستاده می شود تا در برج جذب، اتیلن اکسید از مخلوط گازهای خروجی راکتور وارد حلال فاز مایع شده و سپس حلال غنی از اتیلن اکسید، وارد برج دفع اتیلن اکسید شود تا هم حلال بازیافت شود و هم اتیلن اکسید بعنوان محصول مطلوب واکنش از بالای آن خارج شود. هدف از نگارش مقاله بهینه سازی شرایط عملیاتی برج جذب اتیلن اکسید است. شرایط عملیاتی باید به گونه ای بهینه شوند که اتیلن اکسید در جریان گاز برگشتی که در واقع جریان خروجی از بالای این برج می باشد، کمترین مقدار ممکن را داشته باشد یا به عبارتی میزان جذب آن حداکثر باشد. نرم افزار مورد استفاده در این شبیه سازی ASPEN HYSYS V۱۱ می باشد و جهت بهینه سازی کار از روش پاسخ سطح با سه پارامتر موثر که هر کدام در پنج سطح قرار دارند استفاده شده است. نتایج کار نشان می دهد که افزایش مقدار جریان ورودی به برج جذب، کاهش دما و افزایش فشار باعث کاهش مقدار اتیلن اکسید در جریان گاز برگشتی می شود. هم چنین بهینه ترین مقدار اتیلن اکسید در جریان گاز برگشتی در دمای ۲۷ درجه سلسیوس، فشار ۱۹.۷۳ بار و جریان حلال خالص ورودی با مقدار ۷۰۰۰۰ کیلوگرم مول در ساعت اتفاق می افتد.

کلیدواژه ها:

اتیلن اکسید، شبیه سازی، بهینه سازی، برج جذب

کد مقاله/لینک ثابت به این مقاله

کد یکتای اختصاصی (COI) این مقاله در پایگاه سیویلیکا CCES12_011 میباشد و برای لینک دهی به این مقاله می توانید از لینک زیر استفاده نمایید. این لینک همیشه ثابت است و به عنوان سند ثبت مقاله در مرجع سیویلیکا مورد استفاده قرار میگیرد:

https://civilica.com/doc/1224735/

نحوه استناد به مقاله:

در صورتی که می خواهید در اثر پژوهشی خود به این مقاله ارجاع دهید، به سادگی می توانید از عبارت زیر در بخش منابع و مراجع استفاده نمایید:
خائیز، شایان و انتظاری، رضا و روزبهی، محمدرضا،1400،بررسی عددی و بهینه سازی پارامتر های موثر بر برج جذب اتیلن اکسید با استفاده از روش پاسخ سطح(RSM)،دوازدهمین کنفرانس ملی پژوهش های نوین در علوم و مهندسی شیمی،بابل،https://civilica.com/doc/1224735

در داخل متن نیز هر جا که به عبارت و یا دستاوردی از این مقاله اشاره شود پس از ذکر مطلب، در داخل پارانتز، مشخصات زیر نوشته می شود.
برای بار اول: (1400، خائیز، شایان؛ رضا انتظاری و محمدرضا روزبهی)
برای بار دوم به بعد: (1400، خائیز؛ انتظاری و روزبهی)
برای آشنایی کامل با نحوه مرجع نویسی لطفا بخش راهنمای سیویلیکا (مرجع دهی) را ملاحظه نمایید.

مدیریت اطلاعات پژوهشی

صدور گواهی نمایه سازی | گزارش اشکال مقاله | من نویسنده این مقاله هستم

اطلاعات استنادی این مقاله را به نرم افزارهای مدیریت اطلاعات علمی و استنادی ارسال نمایید و در تحقیقات خود از آن استفاده نمایید.

علم سنجی و رتبه بندی مقاله

مشخصات مرکز تولید کننده این مقاله به صورت زیر است:
نوع مرکز: دانشگاه دولتی
تعداد مقالات: 1,942
در بخش علم سنجی پایگاه سیویلیکا می توانید رتبه بندی علمی مراکز دانشگاهی و پژوهشی کشور را بر اساس آمار مقالات نمایه شده مشاهده نمایید.

مقالات مرتبط جدید

به اشتراک گذاری این صفحه

اطلاعات بیشتر درباره COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.

پشتیبانی