اثر تله های موجود در شکاف باند انرژی بر روی جریان درین در ترانزیستورهای اثر میدان تونلی

سال انتشار: 1399
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: فارسی
مشاهده: 397

فایل این مقاله در 7 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

JR_TJEE-50-4_018

تاریخ نمایه سازی: 9 خرداد 1400

چکیده مقاله:

در این مقاله، مطالعه­ای دقیق از مکانیزم تونل­زنی به کمک تله­ها در ترانزیستورهای اثر میدان تونلی ارائه شده­است. این پدیده باعث تولید جریان نشتی بزرگی قبل از شروع فرایند تونل­زنی باند­به­باند می شود و نقش کلیدی در تعیین جریان حالت خاموش این ترانزیستورها دارد. با اصلاح فرمول SRH نشان داده شده­است که در دمای اتاق برای ولتاژهای کم­تر از ولتاژ آستانه جریان تونل­زنی از­طریق تله­ها همواره غالب بوده و باعث تنزل مشخصه­ی کلید­­زنی ترانزیستور، که توسط شیب زیر آستانه سنجیده می­شود، می­گردد. این نتایج برای ساختارهای دو گیتی و GAA که در آن­ها تله­ها بین ناحیه تونل­زنی سورس-کانال قرار می­گیرند نیز قابل تعمیم است. فرایند تونل­زنی از­طریق تله­ها وابستگی قوی به میدان الکتریکی و دما دارد. در ساختار ترانزیستورهای مورد بحث در این مقاله از نیمه­هادی­های گروه سه و پنج جدول تناوبی استفاده شده­است. هم­چنین اثر متغیرهای ساختاری مختلف بر میزان جریان تونل­زنی از­طریق تله­ها در این پژوهش مورد بررسی قرار گرفته­است.  

کلیدواژه ها:

ترانزیستور اثر میدان تونلی˓ تونل زنی باند به باند˓ تونل زنی از طریق تله ها˓ رابطه SRH˓ نیمه هادی های III ، V

نویسندگان

سیده محجوبه سجادی

دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر - دانشگاه سمنان

سعید محمدی

دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر - دانشگاه سمنان

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • سید امیر هاشمی˓ «مدل تحلیلی پتانسیل و ولتاژ آستانه ترانزیستور ...
  • مهسا مراد و میثم زارعی˓ «ارائه ساختاری جدید از ترانزیستورهای ...
  • S. H. Kim, Germanium-Source Tunnel Field Effect Transistors for Ultra-Low ...
  • T. J. Vasen, Investigation of III-V Tunneling Field-Effect Transistors, Ph.D. ...
  • W. E. Spear, P. G. LeComber and A. J. Snell, ...
  • G. Vincent, A. Chantre and D. Bois, “Electric field effect ...
  • P. T. Landsberg, Recombination in Semiconductors, Cambridge Univ. Press, Cambridge, ...
  • J. Y. Hou, J. K. Arch, S. J. Fonash, S. ...
  • J. A. Willemen, M. Zeman and J. W. Metselaar, “Computer ...
  • H. Xu and Y. Dai, “Two-dimensional analytical model of double-gate ...
  • J. Furlan, “Tunneling generation–recombination currents in a-Si junctions,” Progress in ...
  • M. Baudrit, and C. Algora, “Tunnel Diode Modeling, Including Nonlocal ...
  • R. N. Sajjad, W. Chern, J. L. Hoyt and D. ...
  • R. N. Sajjad, U. Radhakrishna and D. A. Antoniadis, “A ...
  • S. Mohammadi and H. R. T. Khaveh, “An Analytical Model ...
  • نمایش کامل مراجع