بهبود نانوکریستال های سیلیکون متخلخل به روش حکاکی الکتروشیمیایی

در سال های اخیر کاربرد سیلیکون متخلخل خصوصیات متفاوتی را در مقایسه با سیلیکون از خود نشان داده است.به عنوان مثال بالا بودن نسبت سطح به حجم وگاف انرژی سیلیکون متخلخل برای نوع n و p افزایش می یابد مثلاگاف انرژی سیلیکون برابر (۱/۱۱ev) در حالی که برای سیلیکون متخلخل که ۵۰ ٪ تا ۷۵ ٪ متخلخل شده است وهمچنین سیلیکون در حالت توده عایق حرارتی نیست ولی سیلیکون میکروتخلخل و لایه اکسید ضخیم سیلیکون،عایق حرارتی خوبی است همچنین میزان جذب سطحی و پایداری در سیلیکون متخلخل نسبت به سیلیکون بهتراست. به روش حکاکی الکتروشیمیایی مبتنی بر هیدروفلوریک به تولید سیلیکون متخلخل می پردازیم. با افزودنمیزان متفاوتی از گناپول در محلول الکترولیت، باعث ایجاد حفرههای منظم و یکنواخت با عمق زیاد در نمونه هایسیلیکونی شد. زیرا افزودن سورفکتنت ها (عامل مرطوب کننده) به الکترولیت، از چسبیدن حباب های هیدروژن بهسطح متخلخل سیلیکون در حال تخلخل جلوگیری می کند و سورفکتنت های موجود در الکل در طی آنودایز،لایه سیلیکون های متخلخل را شستشوی شیمیایی میدهد و در زمان های طولانی آنودایز در مقادیر زیاد الکل منجربه تخلخل های بیشتر در سطح می شود.

کلیدواژه ها:

سیلیکون متخلخل ، سیلیکون ، نانو ساختار ، سورفکتنت ، حکاکی الکتروشیمیایی