مطالعه توپوگرافی و خواص ساختاری لایه‌های آمورف کربن نیکل با توزیع‌های متفاوت فلزی

در این مقاله خواص ساختاری لایه های آمورف کربن نیکل  ساخته شده از هدف­های گرافیتی با مقادیر مختلف نیکل از 87/1 تا 64/4 درصد مورد مطالعه قرار می گیرند. توپوگرافی در لایه­های انباشت شده در 78/1، 21/3 و 64/4 درصد دارای یک افت و خیزی حول  یک نانومتر ولی در لایه­های انباشت شده در 92/3 درصد دارای افت وخیزی حول 20 پیکومتر است.  لایه­های انباشت شده در 92/3  درصد دارای کمترین مقدار سد پتانسیل در حدود 00031/. الکترون ولت است. این لایه­ها همچنین دارای  کمترین مقدار اندازه عرضی نانوذرات در حدود 40 نانومتر هستند. انباشت لایه­ها دارای یک فرآیند گذار غیرفلز-فلز در 92/3 درصد است.  

کلیدواژه ها:

لایه‌های آمورف ، کربن نیکل ، اشعه ایکس EDAX ، کندوپاش مغناطیسی