تاثیر فرکانس و شکل موج تحریک جریان متناوب بر آنتن پلاسمایی تک قطبی U شکل

سال انتشار: 1398
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,656

فایل این مقاله در 7 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

JR_RADAR-7-2_009

تاریخ نمایه سازی: 4 شهریور 1399

چکیده مقاله:

امروزه فن­آوری پلاسما، کاربردهای قابل توجهی در صنایع مختلف از جمله مخابرات یافته است. حد یونیزاسیون بالای پلاسما سبب شده که بتوان از آن به عنوان یک رسانای خوب و به عنوان جایگزینی برای فلز در ساختارهای فرکانس بالا استفاده کرد. در سال­های اخیر توجه جوامع علمی و به خصوص مراکز فضایی و نظامی به محیط پلاسما برای طراحی ساختارهای آنتن قابل پیکربندی مجدد، موج برها و سطوح فرکانس گزین (FSS) افزایش یافته است. دلیل این موضوع مشخصات ویژه محیط پلاسما بوده که با استفاده از آن می­توان کنترل و انطباق پذیری را بر ساختارهای مختلف پیاده­سازی کرد. تاثیر استفاده از پلاسما در آنتن­ها عبارت است از: بهبود حساسیت و جهت دهی، قابلیت پنهان­سازی و سطح مقطع راداری کم، تنظیم جهت الگوی تشعشعی، حل مشکل تزویج و تداخل آنتن­های آرایه­ای، تغییر فرکانس کاری. ایجاد پلاسما روش­های مختلفی دارد که عبارت اند از: تحریک با جریان مستقیم، جریان متناوب، موج سطحی. هدف از این پژوهش، مطالعه و بررسی اثر تحریک جریان متناوب پلاسما با فرکانس و شکل موج­های مختلف بر پارامترهای آنتن پلاسمایی تک قطبی U شکل از جمله: تطبیق، فرکانس­های تشدید و پهنای­باند می­باشد. این نوع از تحریک علاوه بر قابلیت مصرف توان بسیار کمتر، موجب افزایش فرکانس کاری آنتن تک قطبی U شکل مورد آزمایش تا حد 2 گیگاهرتز و پهنای باند آن می­شود. سیگنال­های ارسالی یا دریافتی از آنتن توسط یک کوپلر خازنی به آنتن پلاسمایی اعمال یا از آن دریافت می­شوند. همچنین با تغییر فرکانس و شکل موج جریان تحریک(مربعی، مثلثی، سینوسی) پلاسما نتایج مختلفی بر پارامترهای آنتن از جمله: بهبود تطبیق، شیفت فرکانس مرکزی و تغییر پهنای باند، مشاهده و اندازه­گیری شده است.

کلیدواژه ها:

آنتن پلاسما تک قطبی U شکل ، تحریک پلاسما با جریان متناوب ، فرکانس متغیر ، شکل موج مختلف

نویسندگان

مجید توحیدلو

دانشگاه تربیت دبیر شهید رجائی

سید محمد هاشمی

هیات علمی دانشگاه تربیت دبیر شهید رجایی

فاطمه صادقی کیا

پژوهشگاه هوافضا

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • T. J. Dwyer, J. R. Greig, D. P. Murphy, J. ...
  • H. Ja’afar, M. T. Ali, H. M. Zali, N. A. ...
  • T. Anderson, Plasma Antennas, Artech House-1 edition, 2011. ...
  • T. Anderson, Plasma Frequency Selective Surfaces, 2014 IEEE Antennas and ...
  • M. A. Lieberman and A. J. Lichtenberg, Principles of Plasma ...
  • Norris, Us Patent No. 5594456, Gas Tube RF Antenna, 1997. ...
  • F. Sadeghikia, M. T.  Noghani, and M. R. Simard, Experimental ...
  • A. Zhu, Characteristics of AC-biased Plasma Antenna and Plasma Antenna ...
  • C. D. Lorrain and P. Brityei, Electromagnetic Fields and Waves, ...
  • W. Xiao-Po and Sh. Jia-Ming, Scattering by Two Parallel Plasma ...
  • نمایش کامل مراجع