سیویلیکا را در شبکه های اجتماعی دنبال نمایید.

جذب سطحی دی اکسیدکربن برروی مزوپروس سیلیکاتی MCM-48 عامل دار شده با پنتااتیلن هگزامین

سال انتشار: 1389
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,998

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دانلود نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

NNTC01_353

تاریخ نمایه سازی: 8 آبان 1389

چکیده مقاله جذب سطحی دی اکسیدکربن برروی مزوپروس سیلیکاتی MCM-48 عامل دار شده با پنتااتیلن هگزامین

مزوپروس سیلیکاتی MCM-48 پس از سنتز بوسیله 50 درصد وزنی پنتا اتیلن هگزامین PEHA عامل دار گردید تا جذب سطحی دی اکسید کربن CO2 برروی آن مورد بررسی قرارگیرد. جاذب سنتزی را MCM-48-PEHA می نامیم نمونه سنتز شده بوسیله پراش اشعه ایکس XRD و جذب - واجذب نیتروژن BET شناسایی گردید میزان CO2 جذب سطحی شده در فشار بین 0 تا 5 بار و در دمای محیط به روش حجم سنجی اندازه گیری شد ایزوترمهای جذب مشخص کرد که در فشار 4 بار میزان CO2 جذب سطحی شده برابر با 0.19 میلی مول CO2 جذب شده به گرم جاذب می باشد این مقدار CO2 در مدت دو دقیقه جذب شد که نشان دهنده سینتیک سریع جذب سطحی این جاذب می باشد.

نویسندگان مقاله جذب سطحی دی اکسیدکربن برروی مزوپروس سیلیکاتی MCM-48 عامل دار شده با پنتااتیلن هگزامین

وحید حسینی

تهران خ هنگام دانشگاه علم و صنعت ایران دانشکده شیمی ازمایشگاه تحقیق

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
_ Conference on Nano Science & Nano Technology, YAZD, 16-18 ...
H.M. Krutka, S.J. Sjostrom, C.J. Bustard, Paper #8-A _ -Mega ...
K.T. Chue, J.N. Kim, Y.J. Yoo, S.H. Cho, R.T. Yang, ...
M. Katoh, T. Yoshikawa, T. Tomonari, K. Katayama, T. Tomida, ...
T. Mimura, H. Simayoshi, T. Suda, M. Iijima, S. Mituoka, ...
C.L. Leci, Energy Conserv. Management, Suppl., 38, S57 (1997) ...
Critchfield, J. E.; Su, W. Y.; Kenney, T. J.; Holub, ...
S. C. Shen, X. Chen and S. Kawi, Langmuir, 20 ...
A. Macario, A. Katovic, G. Giordano, F. Iucolano and D. ...
نمایش کامل مراجع

مقاله فارسی "جذب سطحی دی اکسیدکربن برروی مزوپروس سیلیکاتی MCM-48 عامل دار شده با پنتااتیلن هگزامین" توسط وحید حسینی، تهران خ هنگام دانشگاه علم و صنعت ایران دانشکده شیمی ازمایشگاه تحقیق؛ منصور انبیا؛ سکینه ماندگارزاد نوشته شده و در سال 1389 پس از تایید کمیته علمی اولین کنفرانس ملی علوم و فناوری نانو پذیرفته شده است. کلمات کلیدی استفاده شده در این مقاله هستند. این مقاله در تاریخ 8 آبان 1389 توسط سیویلیکا نمایه سازی و منتشر شده است و تاکنون 1998 بار صفحه این مقاله مشاهده شده است. در چکیده این مقاله اشاره شده است که مزوپروس سیلیکاتی MCM-48 پس از سنتز بوسیله 50 درصد وزنی پنتا اتیلن هگزامین PEHA عامل دار گردید تا جذب سطحی دی اکسید کربن CO2 برروی آن مورد بررسی قرارگیرد. جاذب سنتزی را MCM-48-PEHA می نامیم نمونه سنتز شده بوسیله پراش اشعه ایکس XRD و جذب - واجذب نیتروژن BET شناسایی گردید میزان CO2 جذب سطحی شده در فشار بین 0 ... . برای دانلود فایل کامل مقاله جذب سطحی دی اکسیدکربن برروی مزوپروس سیلیکاتی MCM-48 عامل دار شده با پنتااتیلن هگزامین با 4 صفحه به فرمت PDF، میتوانید از طریق بخش "دانلود فایل کامل" اقدام نمایید.