تغییرات میدان دنباله حاصل از پالس لیزری چیرپ شده در پلاسمای ناهمگن

  • سال انتشار: 1395
  • محل انتشار: چهارمین کنفرانس مهندسی و فیزیک پلاسما
  • کد COI اختصاصی: PLASMA04_041
  • زبان مقاله: فارسی
  • تعداد مشاهده: 275
دانلود فایل این مقاله

نویسندگان

محمد رضایی پندری

پژوهشکده لیزر و پلاسما دانشگاه شهید بهشتی تهران

فاضل جهانگیری

پژوهشکده لیزر و پلاسما دانشگاه شهید بهشتی تهران

علیرضا نیکنام

پژوهشکده لیزر و پلاسما دانشگاه شهید بهشتی تهران

رضا مسعودی

پژوهشکده لیزر و پلاسما دانشگاه شهید بهشتی تهران

چکیده

تحول میدان دنباله حاصل از برهمکنش پالس لیزری چیرپ شده فوق کوتاه در پلاسمای همگن و ناهمگن بررسی شده است. با در نظر گرفتن تابعیت خطی، درجه دوم و سینوسی برای چیرپ پالس لیزری، نشان می دهیم که بیشینه اندازه میدان دنباله در پلاسمای ناهمگن و با پالس چیرپ شدهی درجه دوم بدست می آید. همچنین مشاهده می شود که میدان دنباله با افزایش شدت پالس و ضریب ناهمگنی تقویت می شود.

کلیدواژه ها

مقالات مرتبط جدید

اطلاعات بیشتر در مورد COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.