بهینه سازی وتعیین مشخصات غشاهای اولترافیلتراسیون تهیه شده به روش فوتوپلیمریزاسیون اسید اکریلیک بر پایه پلیسولفون : اثر افزودنیهای مختلف روی میزان احتباس نمکها
- سال انتشار: 1387
- محل انتشار: اولین کنفرانس پتروشیمی ایران
- کد COI اختصاصی: IPCONF01_284
- زبان مقاله: فارسی
- تعداد مشاهده: 1782
نویسندگان
دانشجوی کارشناسی ارشد مهندسی شیمی نساجی دانشگاه صنعتی امیرکبیر
دانشجوی کارشناسی ارشد علوم و فناوری نانو دانشگاه کاشان
دانشیار و عضو هیئت علمی دانشگاه صنعتی امیرکبیر
استادیار و عضو هیئت علمی دانشگاه کاشان، NanoSciTech. Center, University of Kashan, Kashan, Iran
چکیده
غشاهای پلی سولفون اولتراف یلتراسیون، که از طر یق فرا یند وارونگی فاز ته یه شدند، با تابش اشعه UV در حضور مونومر اس ید اکریلیک ) ) AA ، به ینه می شوند . در محلول پلیمری اول یه شامل 18% پلی سولفون و 78% حلال ) - n متیل پیرولیدون ) ، پلی ات ی لن گل ی کول ) ) PEG با اوزان مولکولی 600 ، 6000 ، 10000 و 20000 به عنوان افزودنی استفاده شد . اثر افزودن PEG و وزن مولکولی آن روی عملکرد و مورفولوژی غشا در حالت اصلاح شده و قبل از اصلاح بررسی شد . مشاهدات عمده بد ی ن شرح می با شند : همه غشاها دارای ساختار غیر متقارن با یک پوسته متراکم و یک لایه پایه ای اسفنجی می باشند . این مساله از مشاهدات SEM روشن می شود؛ با حضور PEG در محلول پل یمری، نفوذپذ یری غشاها افزا ی ش می ی ابد . بنابرای ن PEGعامل ا یجاد کننده حفره می باشد؛ دبی آب خ الص PWF با افزایش وزن مولکولی PEG افزای ش می یابد؛ در عمل یات گرافت با افزا یش غلظت AA در زمان تابش 10 دق یقه، به علت تشک یل زنج ی ره های پلیمری روی سطح ودیواره حفره ها، PWF کاهش می یابد و متناظر با آن با افزایش زمان گرافت در غلظت ثابت AA ، PWF کاهش می یابد؛ افزا یش زمان گرافت و ن یز غلظت AA ، احتباس نمکها ی ی چون سدیم کلرید و سدیم سولفات و ماکروملکولهایی نظ یر PEG را بهبود می بخشد؛ با افزا ی ش لظت AA از 8% به 16% ، م یزان احتباس محلول سدیم کلرید و سدیم سولفات از 4% و 10% به 28% و 36% به ترتیب افزای ش یافت؛ با اندازه گ یری آستانه شکست غشاهای اصلاح شده با اوزان مولکولی مختلف PEG ، مشخص شد که آستانه شکست غشاها در محدوده 10000 تا 20000 دالتون می باشد؛ حضور پ ی ک های کربوکس یل و هیدروکسیل در 1710 و 3300 cm -1 در اسپکتروسکوپی FTIR ، گرافت AA روی پلی سولفون را ثابت می کند؛ تصاویر SEM ، مطابق با انتظار، کاهش تعداد منافذ انگشتی، افزا یش در تعداد آنها و افزا یش اندازه منافذ لایه ز یرین را نشان می دهد در ضمن با رویت تصاویر و کاهش اندازه منافذ با انجام عمل گرافت مشهود است .SEM، افزا یش اندازه منافذ با افزا یش وزن مولکولی PEG و کاهش اندازه منافذ با انجام عمل گرافت مشهود استکلیدواژه ها
گرافت UV ، پلی سولفون، اسید اکریلیک، پلی اتیلن گلیکول، احتباس نمکهامقالات مرتبط جدید
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.