بررسی اثر هیدروژن درلایه های نازک اکسید قلع آلاییده شده با درصد ها مختلف ناخالصی ایندیوم (SnO2:In)

  • سال انتشار: 1386
  • محل انتشار: کنفرانس فیزیک ایران 1386
  • کد COI اختصاصی: IPC86_265
  • زبان مقاله: فارسی
  • تعداد مشاهده: 1371
دانلود فایل این مقاله

نویسندگان

محسن میرنژاد

آزمایشگاه میکرو الکترونیک، گروه فیزیک دانشگاه فردوسی مشهد ، مشهد

محمود رضایی رکن آبادی

آزمایشگاه میکرو الکترونیک، گروه فیزیک دانشگاه فردوسی مشهد ، مشهد

حسین کشمیری

آزمایشگاه میکرو الکترونیک، گروه فیزیک دانشگاه فردوسی مشهد ، مشهد

محمدرضا رشیدیان وزیری

گروه فیزیک دانشگاه بیرجند، بیرجند

چکیده

در انواع ساختارهای نمونه های نبمه هادی، نقایص بلوری ( با چگالی های متفاوت ) وجود دارد . اتصالات آویزان ناشی از این نقایص، باعث به دام اندازی حامل های بار و کاهش تحرک حامل ها می شوند . انتظار می رود که قرارگیری لایه نازک SnO2 :In در معرض هیدروژن اتمی موجب افزایش چشمگیر هدایت الکتریکی این لایه ها شود، چرا که هیدروژن اتمی می تواند با بستن اتصالات آویزان ( ناشی از نقص های بلوری ) ، تحرک حامل های بار را افزایش دهد . در این تحقیق لایه های نازک SnO2 :In با درصد های مختلف ناخالصی In ساخته شده به روش اسپری پایرولیز، در شرایط بهینه هیدروژن دهی شدند . نتیجه این امر کاهش 30 تا 45 درصدی مقاومت الکتریکی نمونه ها بود در حالیکه کاهش کمی در عبور اپتیکی لایه ها مشاهده شد .

کلیدواژه ها

مقالات مرتبط جدید

اطلاعات بیشتر در مورد COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.