لیتوگرافی تداخل لیزری: شبیه سازی و نتایج تجربی
- سال انتشار: 1392
- محل انتشار: سومین همایش ملی مهندسی اپتیک و لیرز ایران
- کد COI اختصاصی: NCOLE03_096
- زبان مقاله: فارسی
- تعداد مشاهده: 1481
نویسندگان
سنندج، دانشگاه کردستان، دانشکده علوم، گروه فیزیک
سنندج، دانشگاه کردستان، دانشکده علوم، گروه فیزیک
گروه فیزیک، دانشگاه وسترن، لندن، انتاریو، کانادا
چکیده
چندین روش برای ساخت نانوساختارها روی زیر لایه جامد وجود دارد. مانند باریکه یونی کانونی شده (FIB) ، لیتوگرافی تداخل لیزری (LIL) و لیتوگرافی باریکه الکترونی (EBL) روش های FIB و EBL بسیار دقیق هستند و می توانند برای ساخت نقش ها در ابعاد نانو استفاده شوند. اما آنها بسیار پرهزینه و وقت گیر هستند. به هرجهت روش LIL خیلی سریع و ارزان است به علاوه LIL میتواند برای ساخت نانوساختارها در ناحیه های بزرگ استفاده شود. در این مقاله ما با استفاده از برنامه های متلب، نقش های حاصل از تداخل دو یا چند باریکه لیزری روی زیرلایههای پوشیده شده با یکلایه فتورزیست را شبیه سازی کردیم. چندین نقش برای مقایسه نتایج آزمایشگاهی با نتایج شبیه سازی ساخته شدند.نتایج شبیه سازی تطابق خوبی با خروجی های آزمایشگاهی دارند. نتایج نشان می دهند که با افزایش تعداد پرتودهی هانقش های حاصل شبیه حلقه های هم مرکزی میشوند که اختلاف بین شعاع دو حلقه مجاور برای تمام حلقهها یکسان است.کلیدواژه ها
آینه لوید،لیتوگرافی تداخل لیزری،نانو نقشهای دورهایمقالات مرتبط جدید
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.