تاثیر پارامتر های انباشت بر مورفولوژی لایه های نازک TIO2 تولید شده به روش کندو پاش

  • سال انتشار: 1389
  • محل انتشار: سومین کنفرانس مهندسی فوتونیک ایران
  • کد COI اختصاصی: PHOTONICS03_091
  • زبان مقاله: فارسی
  • تعداد مشاهده: 1043
دانلود فایل این مقاله

نویسندگان

زهرا شفیعی زاده

مرکز ملی علوم و فنون لیزر ایران،تهران

جهانبخش مشایخی اصل

مرکز ملی علوم و فنون لیزر ایران،تهران

مهدی انارکی

مرکز ملی علوم و فنون لیزر ایران،تهران

حسن حیدری

مرکز ملی علوم و فنون لیزر ایران،تهران

چکیده

دی اکسید تیتانیم TiO2 بطور گسترده ای در لایه نشانی های اپتیکی استفاده می شود دراین مقاله تاثیر پارامترهای لایه نشانی برلایه های نازک TiO2 بدست آمده توسط انباشت کندوپاش مغناطیسی فرکانس رادیویی مورد مطالعه قرارگرفته است بدین منظور لایه های TiO2 در نرخهای مختلف ارگون نشست یافته اند میکروسکوپ نیروی اتمی غیرتماسی NC-AFMبرای بررسی سطح لایه ها استفاده شده است اطلاعات AFM نشان میدهد که مورفولوژی سطح و زبری به نرخ فلوی گاز ارگون و تعداد ذرات بمباران کننده بستگی دارد.

کلیدواژه ها

دی اکسید تیتانیم، کندوپاش مغناطیسی واکنشی، میکروسکوپ نیروی اتمی

مقالات مرتبط جدید

اطلاعات بیشتر در مورد COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.