طراحی و ساخت کریستال فوتونیکی پلیمری معلق با استفاده از روش لیتوگرافی تداخلی و جداسازی شیمیایی
- سال انتشار: 1389
- محل انتشار: هفدهمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران و سومین کنفرانس مهندسی فوتونیک ایران
- کد COI اختصاصی: ICOPTICP17_121
- زبان مقاله: فارسی
- تعداد مشاهده: 1742
نویسندگان
دانشکده فیزیک دانشگاه امام حسین (ع) تهران
دانشکده فیزیک دانشگاه امام حسین (ع) تهران
مجتمع برق و الکترونیک دانشگاه مالک اشتر پردیس تهران
مجتمع برق و الکترونیک دانشگاه مالک اشتر پردیس تهران
چکیده
دراین مقاله کریستالهای فوتونیکی در پلیمر SUB با استفاده از روش لیتوگرافی تداخلی با تناوب زیر میکرومتر ایجاد شده اند به منظور معلق سازی و ایجاد پایه ها لایه نشانی مجدد پلیمر SUB ضخیمتر و تابش نور فرابنفش همراه با ماسک برروی ان انجام شد با استفاده ازمحلول ظهور ماده SUB طرح پایه های کریستال فوتونیکی ایجاد شده و پس از جداسازی به روش شیمیایی کریستالهای فوتونیکی معلق ساخته شدند. این کریستالها با توجه به اختلاف ضریب شکست بالای بین پلیمر و هوا می توانند در ساخت بیوسنسورها و فیلترهای اپتیکی به کار روند.کلیدواژه ها
کریستال فوتونیکی ، لیتوگرافی تداخلی ، فوتورزبست SUBمقالات مرتبط جدید
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.