تحلیل فرایند Lithography توسط شبیه سازی المان محدود و اصلاح مدل قطعه به روش تحلیل حساسیت
- سال انتشار: 1387
- محل انتشار: نهمین کنفرانس مهندسی ساخت و تولید
- کد COI اختصاصی: ICME09_152
- زبان مقاله: فارسی
- تعداد مشاهده: 1059
نویسندگان
دانشجوی کارشناسی ارشد ساخت و تولید دانشگاه امیرکبیر
دانشجوی کارشناسی ارشد ساخت و تولید دانشگاه امیرکبیر
استادیار دانشگاه امیرکبیر
چکیده
یکی از روشهای نمونه سازی روش stereo lithography می باشد که در آن قسمت مشخصی از سطح رزین مایع توسط نور لیزر و یا منبع دیگر از انرژی به جامد تبدیل می شود در این حالت عمل تبدیل شدن رزین به جامد همراه با کاهش حجم آن یا همان شیرینکیج می باشد. شیرینکیج و تغییر شکل های پیچشی (تاب برداشتن) از اصلی ترین فاکتورهایی است که باعث عدم دقت در قطعه می شود، بخصوص در مورد قطعات توخالی. به طور معمول طراحان سعی می کنند با قرار دادن ساپورتر ها در کنار مدل از تغییر شکل بیشتر آن جلوگیری کنند اما در پایان با جدا کردن ساپورتر، مدل به راحتی تغییر شکل می دهد و در حقیقت زمان و هزینه ای را که برای ساخت ساپورتر مصرف کرده است را از دست داده. در اینجا ما با تحلیل های المان محدود تغییر شکل سطوح خارجی مدل را در طول فرایند ساخت محاسبه می کنیم و در نهایت با انجام تحلیل حساسیت مدل اصلاح شده ای را ارایه می دهیم که می تواند بعد از ساخت دقت مورد نیاز طراح را فراهم کند.کلیدواژه ها
نمونه سازی سریع، المان محدود، تحلیل حساسیتمقالات مرتبط جدید
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.