اثر به کارگیری اهداف نانوساختار مختلف بر گسیل خطی اشعه ایکس سخت از پلاسمای حاصل از لیزرهای پالسی بلند پرتوان
- سال انتشار: 1388
- محل انتشار: شانزدهمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران
- کد COI اختصاصی: ICOPTICP16_178
- زبان مقاله: فارسی
- تعداد مشاهده: 1117
نویسندگان
دانشکده فیزیک، دانشگاه علم و صنعت ایران، نارمک تهران
دانشکده فیزیک، دانشگاه علم و صنعت ایران، نارمک تهران
دانشکده مهندسی مکانیک، دانشگاه آزاد اسلامی واحد تاکستان
چکیده
در این مقاله گسیل اشعه ایکس سخت گسسته از پلاسمای تولید شده توسط تابش دهی اهداف فلزی نانوساختار آهن و آلومینیوم به وسیله پالسهای لیزر پرتوان با طول پالس بلندو شدت های مختلف بررسی می شود. به منظور کنترل و افزایش گسیل خطی اشعه ایکس، از اهداف فلزی نانو و ساختار به جای اهداف معمولی استفاده شد. شبیه سازی و محاسبات نشان می دهد در کلیه موارد مورد بررسی، میزان گسیل اشعه ایکس به ازا یک چگالی مناسب برای لایه نانویی، افزایش قابل ملاحظه ای خواهد داشت.کلیدواژه ها
اشعه ایکس سخت، پلاسمای تولید شده توسط لیزر، گسیل خطی، هدف نانوساختار فلزیمقالات مرتبط جدید
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.