ساخت غشای الیاف توخالی پلی سولفون و اثر حلال و فاصله هوایی بر شکل شناسی آن
- سال انتشار: 1385
- محل انتشار: دوماهنامه علوم و تکنولوژی پلیمر، دوره: 19، شماره: 6
- کد COI اختصاصی: JR_IJPST-19-6_005
- زبان مقاله: فارسی
- تعداد مشاهده: 709
نویسندگان
تهران، پژوهشگاه پلیمر و پتروشیمی ایران، مرکز رشد فناوری پلیمر، شرکت پارسیان پویا پلیمر
تهران، پژوهشگاه پلیمر و پتروشیمی ایران، مرکز رشد فناوری پلیمر، شرکت پارسیان پویا پلیمر
تهران، پژوهشگاه پلیمر و پتروشیمی ایران، مرکز رشد فناوری پلیمر، شرکت پارسیان پویا پلیمر
تهران، پژوهشگاه پلیمر و پتروشیمی ایران، مرکز رشد فناوری پلیمر، شرکت پارسیان پویا پلیمر
چکیده
دراین پژوهش، برای اولین بار در ایران ،غشاهای الیاف توخالی پلی سولفون به روش وارونگی فاز مرطوب-خشک ساخته شد،سپس آثار فاصله هوایی و نوع حلال برساختار غشاهای ساخته شده بررسی شد. اثر نوع حلال بر ساختار غشای الیاف توخالی با حلال های دی متیل فرمامید و N-متیل پیرولیدن و بررسی شکل شناسی غشا به روش میکروسکوپی الکترون پویشی انجام شد. استفاده از حلال N- متیل پیرولیدون در ساخت محلول پلی سولفون منجر به لایه های سطحی با خلل و فرج انگشتی در ساختار غشا شد، در حالی که الیاف ساخته شده از محلول پلی سولفون در حلال دی متیل فرمامید لایه های سطحی با ساختار اسفنجی شکل دارند. تفاوت در شکل شناسی غشای پلی سولفون در حلال N- متیل پیرولیدون و دی متیل فرمامید ناشی از تفاوت در قابلیت انحلال پذیری ومقدار برهمکنش حلال-ضدحلال بکار رفته است که با مقدار پارامتر انحلال پذیری هانسن توضیح داده شد. در ضمن مشاهده شد که با افزایش فاصله هوایی،قطر خارجی الیاف و نیز تخلخل ایجاد شده در لایه های سطحی الیاف کاهش یافته درنتیجه تراکم سطح بیرونی الیاف افزایش می یابد.کلیدواژه ها
غشا، الیاف توخالی، فاصله هوایی، نوع حلال، وارونگی فازاطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.