بررسی تاثیر دما بر شکلگیری نقص در چینش، استحکام تسلیم و مدول نانوفیلر نقره تحت فشار تکمحوره با شبیهسازی دینامیک مولکولی
- سال انتشار: 1395
- محل انتشار: دهمین همایش مشترک و پنجمین کنفرانس بین المللی انجمن مهندسی مواد و متالورژی و انجمن علمی ریخته گری ایران
- کد COI اختصاصی: IMES10_277
- زبان مقاله: فارسی
- تعداد مشاهده: 517
نویسندگان
کارشناسی ارشد شناسایی و انتخاب مواد مهندسی، دانشگاه صنعتی خواجهنصیرالدین طوسی
استادیار گروه شناسایی و انتخاب مواد مهندسی، دانشگاه صنعتی خواجهنصیرالدین طوسی، دانشکده مهندسی و علم مواد
چکیده
در پژوهش حاضر، یک نمونهی مکعبی از نانوفیلر نقره با ابعاد 10 نانومتر، حاوی 4000 اتم، تحت فشار تکمحوره قرار گرفت. هدف اصلی این پژوهش، به بررسی تاثیر دما بر شکلگیری مناطق نقص در چینش، استحکام تسلیم و مدول فشاری این نانوساختاراختصاص داشت. با استفاده از شبیهسازی دینامیک مولکولی، نمونهها در سه دمای متفاوت، 1و300و800کلوین مورد بررسی قرارگرفتند. برهمین اساس علاوه بر دمای اتاق ( 300 کلوین)، برای بیاثر کردن تاثیر حرارت بر نتایج، از دمای 1 کلوین استفاده شد. همچنین برای منظور کردن تهییج اتمی و اثر آن بر خواص مذکور، دمای 800 کلوین (نصف نقطه ذوب نقره) انتخاب گردید. نتایجبهدست آمده نشان داد که با افزایش دما، مناطق نقص در چینش و باندهای دوقولویی کاهش مییابد تا اینکه سرانجام منجر به نفوذ اتمی در دمای 800 کلوین شده و مکانیزم تغییرشکل نمونه، به لغزش نابهجایی تغییر کرده و دوقولوییها ناپدید میشوند. این پدیدهسبب شد کمترین مقادیر مربوط به استحکام تسلیم و مدول فشاری در این دما بهدست آید. درحالیکه، بیشترین مقادیر مذکور بهنمونهی مورد بررسی در دمای 1 کلوین اختصاص داشت. در واقع، تشکیل دوقولوییها و ممانعت آنها از تحرک نابهجایی، نقش مهمی در این افزایش مقادیر، ایفا کردکلیدواژه ها
تشکیل نقص در چینش، استحکام تسلیم، مدول فشاری، آزمون فشار تک محوره، نانوفیلر نقرهمقالات مرتبط جدید
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.