اثر فشار محفظه بررشد لایه های نانو کامپوزیت مس-کربن تهیه شده با کاربرد همزمان روشهای لایه نشانی RF-Sputtering و RF-PECVD

  • سال انتشار: 1386
  • محل انتشار: سومین کنفرانس ملی خلاء
  • کد COI اختصاصی: NCV03_007
  • زبان مقاله: فارسی
  • تعداد مشاهده: 1707
دانلود فایل این مقاله

نویسندگان

طیبه قدس الهی

دانشکده فیزیک دانشگاه شریف, تهران، مرکز تحقیقات فیزیک نظری وریاضیات, ت

محمدعلی وساقی

دانشکده فیزیک دانشگاه شریف, تهران، مرکز تحقیقات فیزیک نظری وریاضیات, ت

عزیزاله شفیع خانی

مرکز تحقیقات فیزیک نظری وریاضیات, تهران، دانشگاه الزهرا, تهران

پروین اولیایی

پژوهشگاه علوم و تکنولوژی هسته ای, تهران

چکیده

لایه های نانو کامپوزیت مس- کربن به روش همز مان RF-PECVD, RF-Sputtering از گاز استیلن وهدف مس رشد داده ایم. فرایند رشد در ناحیه ای که با تغییر فشار محفظه فرایند به کندوپاش فیزیکی در توان ثابت و فشار بحرانی 1,5 تا 3 پاسکال تبدیل می شود, بررسی می شود. مقدار تخمینی انرژی متوسط یونها در این فشار بحرانی نزدیک به آستانه انرژی اسپاترینگ فیزیکی مس با یونهای استیلن است. با استفاده از این خاصیت و با تنظیم فشار اولیه از 1,3 تا 6,6 پاسکال لایه های نازک مس – کربن با محتویات مس متفاوت رشد داده ایم. محتویات مس این لایه ها با استفاده از پراکندگی راترفورد (RBS) واسپکتروسکپی امواج ایکس (XPS) تعیین شد. تصاویرمیکرسکوپ نیروی اتمی (AFM) و پراش امواج ایکس (XRD) بر تشکیل نانو ذرات مس دلالت دارند.

کلیدواژه ها

مقالات مرتبط جدید

اطلاعات بیشتر در مورد COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.