Effect of Magnetron Plasma Parameters on the Sputtered Thin Films of Copper
- سال انتشار: 1385
- محل انتشار: هفتمین سمینار ملی مهندسی سطح و عملیات حرارتی
- کد COI اختصاصی: ISSE07_069
- زبان مقاله: انگلیسی
- تعداد مشاهده: 1858
نویسندگان
Laser-Plasma Research Institute, Shahid Beheshti University
Laser-Plasma Research Institute, Shahid Beheshti University
Laser-Plasma Research Institute,Phys. Dept. and Laser-Plasma Research Institute, Shahid Beheshti University
چکیده
A sputtering apparatus was designed and manufactured with a planar circular DC magnetron. The effect of magnetic field lines on the plasma structure was shown using photo imaging. Unbalanced condition of the magnetron was demonstrated under different values of voltage, pressure and distance between cathode and substrate. The effect of these variables was studied on the coatings thicknesses, their composition and light absorption using the data from the experiments of light photo spectrometry. Keywords: sputtering; magnetron; absorption; spectrometry .کلیدواژه ها
مقالات مرتبط جدید
- ساخت رویه هندسی فولادی به روش تولید افزایشی سیم و قوس (WAAM)
- بررسی اثر افزودنی نانوذرات Y۲O۳ بر ریزساختار روکش اینکونل ۷۱۸
- بررسی اثر زمان عملیات حرارتی پیرسازی بر ریزساختار و خواص مکانیکی در اتصال لحیم نرم بدون سرب کامپوزیتی Sn-Ag-Cu/Co روی زیرلایه مسی
- تاثیر متغیرهای جوشکاری لیزر ضربانی بر تنش پسماند فولاد زنگ نزن آستنیتی L۳۱۶ با استفاده از روش المان محدود (FEM)
- بررسی ریزساختاری روکش کاری لیزری CoCrMoSi
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.