Effect of Magnetron Plasma Parameters on the Sputtered Thin Films of Copper
- سال انتشار: 1385
- محل انتشار: هفتمین سمینار ملی مهندسی سطح و عملیات حرارتی
- کد COI اختصاصی: ISSE07_069
- زبان مقاله: انگلیسی
- تعداد مشاهده: 1799
نویسندگان
Laser-Plasma Research Institute, Shahid Beheshti University
Laser-Plasma Research Institute, Shahid Beheshti University
Laser-Plasma Research Institute,Phys. Dept. and Laser-Plasma Research Institute, Shahid Beheshti University
چکیده
A sputtering apparatus was designed and manufactured with a planar circular DC magnetron. The effect of magnetic field lines on the plasma structure was shown using photo imaging. Unbalanced condition of the magnetron was demonstrated under different values of voltage, pressure and distance between cathode and substrate. The effect of these variables was studied on the coatings thicknesses, their composition and light absorption using the data from the experiments of light photo spectrometry. Keywords: sputtering; magnetron; absorption; spectrometry .کلیدواژه ها
مقالات مرتبط جدید
- فعالیت الکترو کاتالیزوری بهبود بافته نانوذرات پلاتین آهن نیکل اکسید در بستر گرافن اکسید کاهش بافته و کیتوزان برای الکترواکسیداسیون اتانول
- تولید و مشخصه بابی پوشش هیبربدی Ni-P/Ni-P-Al۲O۳/Ni-P-SiC به روش الکترولس
- مدلسازی فرایند جداسازی آب از نفت خام با استفاده از تعلیق شکن طبیعی برگ نیلوفر آبی با بکارگیری تکنیک ANFIS
- پیش بینی چگالی گاز طبیعی با استفاده از ظرفیت گرمابی ویژه گاز در فشار ثابت به کمک تکنیک هوش مصنوعی بیان ژنی
- تاثیر ذرات تقویت کننده بر روی خواص مکانیکی آلیاژهای آنتروپی بالا
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.