بهبود راندمان بازدارندگی SAMs شیف بازها روی مس در محیط سولفوریک اسید به کمک آلکان تیولها
- سال انتشار: 1384
- محل انتشار: نهمین کنگره ملی خوردگی ایران
- کد COI اختصاصی: INCC09_031
- زبان مقاله: فارسی
- تعداد مشاهده: 2650
نویسندگان
دانشجوی دکتری بخش مهندسی مواد، دانشکده فنی دانشگاه تربیت مدرس
دانشیار بخش مهندسی مواد، دانشکده فنی دانشگاه تربیت مدرس
استادیار دانشکده شیمی، دانشگاه تبریز
چکیده
از دو شیف باز متقارن سنتز شدة جدید، جهت کاهش سرعت خوردگی مس در سولفوریک اسید ٠,٥ مولار استفاده شد و رفتار الکتروشیمیائی مس در حضور فیلم های خودمجموعه ساز این شیف بازها به کمک روشهای پلاریزاسیون تافل و امپدانس Ac مورد بررسی قرار گرفت . نتایج نشان دادند که بازدارنده های مورد آزمایش از نوع مختلط بوده و با جذب شدن بر روی مکانهای سطح، واکنش کاتدی و واکنش آندی را مختل می سازند . هر دو شیف باز استعداد بازدارندگی ً نسبتا خوبی در محیط اسیدی مذکور دارا می باشند که با افزایش غلظت، مقاومت پلاریزاسیون و در نتیجه راندمان بازدارندگی نیز افزایش می یابد و راندمان بازدارندگی شیف باز S2 بیش از S1 بود . در غلظتهای پایین که امکان استفاده از بازدارنده ها از لحاظ اقتصادی توجیه پذیرتر می باشد راندمان آنها پایین می باشد . لذا، راندمان بازدارندگی شیف بازها در حضور پروپان تیول و١ - دودکان تیول ارزیابی شد و مشاهده شد که آلکان تیولها با ایجاد اثر تزاید تقویتی قادر به بهبود خواص حفاظتی فیلمهای خودمجموعه ساز شیف بازها روی سطح الکترود مس می باشندکلیدواژه ها
خوردگی؛ اسیدشوئی؛ شیف باز؛ مس؛ امپدانس Ac ؛ فیلم های خودمجموعه سازمقالات مرتبط جدید
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.