مطالعه رفتار تف جوشی نانوذرات اکسید روی با هدف کنترل رشد دانه ها

  • سال انتشار: 1386
  • محل انتشار: دومین همایش دانشجویی فناوری نانو
  • کد COI اختصاصی: NANOSC02_233
  • زبان مقاله: فارسی
  • تعداد مشاهده: 1339
دانلود فایل این مقاله

نویسندگان

مهدی مظاهری

دانشکده مهندسی و علم مواد، دانشگاه صنعتی شریف

علی محمد زاهدی

دانشکده مهندسی و علم مواد، دانشگاه صنعتی شریف

خطیب الاسلام صدرنژاد

دانشکده مهندسی و علم مواد، دانشگاه صنعتی شریف

عبدالرضا سیم چی

دانشکده مهندسی و علم مواد، دانشگاه صنعتی شریف

چکیده

در این پژوهش با بهره گیری از شیوه جدید تف جوشی دومرحله ای ، رشد افراطی دانه ها در مرحله نهایی تف جوشی نانو ذرات Zno کنترل شد. تف جوشی دو مرحله ای با دماهای 800 درجه سانتی گراد برای مرحله اول و 750 درجه سانتی گراد برای مرحله دوم صورت پذیرفت. در حالیکه تف جوشی معمولی به صورت غیر هم دما در محدوده دمایی 600 درجه سانتی گراد تا 1200 درجه سانتی گراد انجام گرفت. مطالعات ریز ساختاری تف جوشی معمولی بیانگر رشد شدید دانه ها درمرحله نهایی تف جوشی است. به طوریکه اندازه دانه قطعات چگالی یافته (چگالی 98%> ) در حدود 4؟؟ است. در مقابل انجام فرایند تف جوشی دو مرحله ای (850 درجه سانتی گراد – T1 و 750 درجه سانتی گراد – T2) دستیابی به ساختاری با اندازه دانه های زیر میکرون (680nm) را میسر ساخت.

کلیدواژه ها

نانو ینترینگ ، تف جوشی دو مرحله ای ، سرامیکها

مقالات مرتبط جدید

اطلاعات بیشتر در مورد COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.