مطالعه عددی لایه نشانی شیمیایی بخار سیلیسیم در محیط پلاسما
- سال انتشار: 1391
- محل انتشار: اولین کنفرانس انتقال حرارت و جرم ایران
- کد COI اختصاصی: ICHMT01_034
- زبان مقاله: فارسی
- تعداد مشاهده: 1278
نویسندگان
گروه مکانیک،دانشکده مهندسی شهید نیکبخت،دانشگاه سیستان و بلوچستان
گروه برق و الکترونیک،دانشکده برق و کامپیوتر،دانشگاه سیستان و بلوچست
گروه مکانیک،دانشکده مهندسی شهید نیکبخت،دانشگاه سیستان و بلوچستان
گروه شیمی،دانشکده مهندسی شهید نیکبخت،دانشگاه سیستان و بلوچستان
چکیده
لایه نشانی شیمیایی بخار بکمک پلاسما یکی ازپرکاربردترین روش های لایه نشانی است که معمولا دردماهای کمتراز 350درجه سانتیگراد صورت میگیرد دراینروش بجای انرژی گرمایی از ذرات انرژی دار برای انجام واکنش استفاده می شود تالایه نشانی بتوانددردمای پایین و با سرعت قابل قبولی صورتگیرد دراین سیستم توان الکتریکی با ولتاژ نسبتا بالا و درفشارپایین برای یونیزه کردن گاز فراهم می شود که باعث شکستن مولکولهایگاز به الکترونها و یونها می شود درمقاله حاضر لایه نشانی فیلم نازک سیلیکن Si درراکتور PECVD شبیه سازی شده و فرایند تشکیل SI روی زیرلایه مورد بحث و بررسی قرارگرفته است ورودی راکتور گاز سیلان SiH4) بهعنوان گاز اصلی واکنش دهنده می باشد که محیط پلاسما را ایجاد م یکند دراین شبیه سازی محیط گازی را محیطی پیوسته جریان گاز را جریانی آرام و سرعت ورودی گاز را برابربا 0/1 متر برثانیه فرض کردها یمهمچنین ازاثرات تابش صرفنظر نموده و گازها را درمحیط پلاسما ایده آل درنظر میگیریمکلیدواژه ها
لایه نشانی به کمک پلاسماpecvd، شبیه سازی، سیلیسیم، گاز سیلانمقالات مرتبط جدید
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.