تاثیر برنامه ریزی پاشش محلول بر راندمان عملیاتی فرایند هیپ لیچینگ
- سال انتشار: 1401
- محل انتشار: یازدهمین کنفرانس بین المللی مهندسی مواد و متالورژی (iMat۲۰۲۲)
- کد COI اختصاصی: IMES16_052
- زبان مقاله: فارسی
- تعداد مشاهده: 308
نویسندگان
دانشجوی کارشناسی ارشد، فرآوری مواد معدنی، دانشکده مهندسی معدن و متالورژی، دانشگاه یزد، یزد، ایران
استادیار ، فرآوری مواد معدنی، دانشکده مهندسی معدن و متالورژی، دانشگاه یزد، یزد، ایران
دانشیار، فرآوری مواد معدنی، دانشکده مهندسی معدن و متالورژی، دانشگاه یزد، یزد، ایران
چکیده
فرایند هیپ لیچینگ یکی از روشهای مهم در استخراج فلزات پایه و گرانبها از کانسنگ های کم عیار است. عوامل بسیاری برراندمان این فرایند تاثیر دارند که از ان جمله می توان به پاشش محلول و عوامل مربوط به آن مانند غلظت عامل انحلال، نرخپاشش و تغییرات آنها در طول زمان اجرا و نحوه اجرای چند هیپ اشاره کرد. در این تحقیق تاثیر پارامترهایی مانند تغییراتنرخ پاشش، تغییرات غلظت اسید سولفوریک و همچنین ترتیب اجرای ستونها بر سینتیک استخراج مس از کانسنگ اکسیدیمطالعه شد. بر اساس نتایج، افزایش سرعت پاشش محلول در طول اجرا سبب افزایش میزان استخراج مس تا ۱۰ درصد شد اماهمزمان غلظت مس در محلول خروجی ستون کاهش یافت که نکته ای منفی به حساب می آید. نتیجه مشابه برای اجرایدو ستون به صورت موازی و سری حاصل شد. نتایج تحقیق نشان داد که برنامه بهینه پاشش باید بر اساس معیارهایمتالورژیکی و اقتصادی انتخاب شود.کلیدواژه ها
هیپ لیچینگ، پاشش محلول، استخراج مس، محلول باردارمقالات مرتبط جدید
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.