بررسی برهمکنش متغیرها در پاشش سرد مس خالص
- سال انتشار: 1400
- محل انتشار: دهمین کنفرانس بین المللی مهندسی مواد و متالورژی (iMat۲۰۲۱)
- کد COI اختصاصی: IMES15_193
- زبان مقاله: فارسی
- تعداد مشاهده: 334
نویسندگان
دانشجوی کارشناسی ارشد متالورژی، دانشگاه تربیت مدر س
استاد متالورژی، دانشگاه تربیت مدرس
دکتری متالورژی، دانشگاه تربیت مدرس
دانشجوی کارشناسی ارشد متالورژی، دانشگاه تربیت مدرس
کارشناسی ارشد متالورژی، دانشگاه تربیت مدر س
چکیده
هدف از این پژوهش، بررسی رابطه بین متغیرهای فرآیند پاشش سرد و سختی پوشش مس روی بستر آلومینیومی به کمک طراحی آزمایش و همچنین بررسی تاثیر هر متغیر بر سختی می باشد. برای این منظور دما، فشار گاز و فاصله پاشش به عنوان متغیرهای فرآیند و سختی به عنوان مشخص ه پوشش مورد بررسی قرار گرفتند. مدل حاصله از این پژوهش قابلیت پیش بینی سختی پوشش را با ضریب تعیین ۹۹/۷% و مقدار احتمال کمتر از ۰/۰۵ ارائه داد؛ به طوری که با اطلاع از شرایط پاشش، امکان تخمین سختی پوشش با ضریب اطمینان ۹۵ درصد فراهم شد. بر اساس مدل سختی مذکور، در دمای ۴۹۵ سانتیگراد، فشار گاز فرآیند ۲۶ بار و فاصله پاشش ۱/۶ سانتیمتر، حداکثر سختی معادل ۱۶۳/۲ ویکرز بدست می آید. نتایج نشان داد متغیر فشار گاز در پاشش سرد مس خالص برای مشخصه سختی، متغیر ی مستقل است و میتوان آن را به صورت مجزا از سایر متغیرها بهینه نمود؛ درحالی که دما و فاصله پاشش دو متغیر وابسته شناسائی شدند.کلیدواژه ها
پاشش سرد، مس خالص، طراحی آزمایش، سختی، بهینه سازیمقالات مرتبط جدید
- مطالعه تجربی و مقایسه رفتار مکانیکی گلار۱/۲ و گلار ۲/۳ تحت بار خمشی
- Investigation effect of process parameters of Al۶۰۶۱ composites fabricated by FSP on microstructure, mechanical properties with minitab and designexpert
- بررسی خواص جوشمان های سطحی دو لایه بر روی ورق فولادی دو لایه
- مکانیزم ها در دیگ های بخار
- Numerical Study on the cavitation patterns in a Francis turbine
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.