تاثیر بکارگیری حلال دوگانه DMF/NMP بر قابلیت الکتروریسی و بافت پلی سولفون الکتروریسی شده
- سال انتشار: 1399
- محل انتشار: نهمین کنفرانس و نمایشگاه بین المللی مهندسی مواد و متالورژی ایران و چهاردهمین همایش ملی مشترک انجمن مهندسی متالورژی و مواد ایران و انجمن ریخته گری ایران
- کد COI اختصاصی: IMES14_201
- زبان مقاله: فارسی
- تعداد مشاهده: 693
نویسندگان
دانشجوی کارشناسی ارشد، بخش مهندسی شیمی، دانشکده مهندسی شیمی، نفت و گاز دانشگاه شیراز
استاد، بخش مهندسی شیمی، دانشکده مهندسی شیمی، نفت و گاز دانشگاه شیراز
استاد، بخش مهندسی مواد، دانشکده مهندسی مواد و عمران دانشگاه شیراز
چکیده
در این پژوهش، تاثیر بکارگیری حلال دوگانه DMF/NMP بر قابلیت الکتروریسی و نیز مشخصه های بافت الکتروریسی شدهپلی سولفون مورد ارزیابی قرار گرفت. محلول های الکتروریسی با نسبت های وزنی مختلف از NMP/DMF؛ (0/100، 25/75،50/50، 75/25، 100/0) تحت شرایط یکسان (نرخ تغذیه 1/5 میلی لیتر بر ساعت، ولتاژ 12/5 کیلووات، سرعت چرخش درام100rpm و فاصله بین نوک سوزن تا درام 14 سانتی متر)، الکتروریسی شدند. مورفولوژی نمونه ها با استفاده از میکروسکوپالکترونی مورد مطالعه قرار گرفت. نتایج نشان داد با افزودن NMP به محلول 20% وزنی پلی سولفون، تنها در نسبت وزنیNMP/DMF برابر با 25/75، الیاف یکنواخت تشکیل می شود. همچنین، میانگین قطر الیاف های حاصل، از 0/853 میکرومتردر نمونه های تهیه شده از DMF خالص به 0/492 میکرومتر در نمونه های با نسبت وزنی NMP/DMF معادل 25/75، کاهش می یابد.کلیدواژه ها
قابلیت الکتروریسی، حلال دوگانه، پلی سولفون، NMP/DMFمقالات مرتبط جدید
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.