تاثیر فشار اکسیژن و دما بر خواصاپتیکی و مورفولوژی لایه های نازک اکسید تنگستن به روشلایه نشانی لیزر پالسی
- سال انتشار: 1390
- محل انتشار: دومین همایش ملی مهندسی اپتیک و لیزر ایران
- کد COI اختصاصی: NCOLE02_021
- زبان مقاله: فارسی
- تعداد مشاهده: 1122
نویسندگان
اصفهان، دانشگاه صنعتی اصفهان، دانشکده فیزیک،
اصفهان، دانشگاه صنعتی اصفهان، دانشکده فیزیک،
اصفهان، دانشگاه صنعتی اصفهان، دانشکده فیزیک،
چکیده
در این مقاله، لایههای نازک اکسید تنگستن بر روی شیشه و سیلیکون به روش لیزر پالسی در محیطهای خلا و فشار جزیی اکسیژنmTorr)100 و در دماهای زیرلایه300-25 درجه سانتیگراد لایه نشانی شدهاند. خواص اپتیکی و مورفولوژی نمونه ها با اسپکتروفوتومتر نوری در محدودهnm800-200 و میکروسکوپ نیروی اتمی مطالعه شد. نتایج نشان داد عبور اپتیکی در لایهنشانی در فشار جزیی اکسیژن بیشتر از محیط خلا است در حالیکه نمونههای محیط خلا انعکاس بیشتری دارند. همچنین در محیط خلا سطوح هموارتری به دست میآید. به طور کلی با افزایشدمای زیرلایه یکنواختی لایه و خواصاپتیکی میتوانند بهبود یابندکلیدواژه ها
لایهنشانی لیزر پالسی، اکسید تنگستن، خواصاپتیکی، مورفولوژیمقالات مرتبط جدید
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.