تاثیر فرایند امایش لیزری براستانه اسیب لیزری تک لایه ی ZrO2 با شرایط انباشت مختلف
- سال انتشار: 1389
- محل انتشار: سومین کنفرانس مهندسی فوتونیک ایران
- کد COI اختصاصی: PHOTONICS03_105
- زبان مقاله: فارسی
- تعداد مشاهده: 908
نویسندگان
گروه فیزیک دانشکده علوم دانشگاه اصفهان
گروه فیزیک دانشکده علوم دانشگاه اصفهان
گروه فیزیک دانشکده علوم دانشگاه اصفهان
گروه فیزیک دانشکده علوم دانشگاه اصفهان
چکیده
تک لایه های ZrO2 به روش تبخیر پرتوالکترونی EBE در فشار پایه 5- 01×0 میلی بار لایه نشانی شد. تاثیر تغییرات فشار اکسیژن برویژگیهای طیفی و اسیب پذیری لیزری پوشش بررسی شد. طیف عبور نمونه ها توسط طیف سنج دو پرتوی اندازه گیری شد استانه اسیب لیزری برطبق استاندارد ISO11254 به دست آمد فرایند امایش لیزری با روش اسکن کردن سطح انجام شد. یافته ها نشان داد که این فرایند درمواردی که فشار جزئی اکسیژن در هنگام لایه نشانی بیشتر است منجر به افزایش استانه اسیب لیزری می شود.کلیدواژه ها
استانه اسیب لیزری امایش لیزری، لایه نازک، لایه نشانی تبخیر فیزیکی بخارمقالات مرتبط جدید
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.