فیلتر نتایج
مقاله ژورنالی
Comparison of Properties of Ti/TiN/TiCN/TiAlN Film Deposited by Cathodic Arc Physical Vapor and Plasma-assisted Chemical Vapor Deposition on Custom 450 Steel Substrates
نویسندگان: E Poursaiedi، A Salarvand
سال انتشار 1395
محل انتشار: ماهنامه بین المللی مهندسی شماره 10، دوره 29
تعداد صفحات: 10 | زبان: انگلیسی