توسعه پوشش های اکسید گرافن بر سطح مس و ارزیابی رفتار خوردگی آن ها

در این پژوهش ابتدا اکسید گرافن به روش هامر اصلاح شده سنتز و سپس پوشش های اکسید گرافن با استفاده از دو حمام اسیدی و بازی بر سطح مس اعمال شد. تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی از سطح پوشش حاصل از هر دو حمام نشان دهنده حضور اکسید گرافن بود. تصاویر سطح پوشش های حاصل از حمام بازی علاوه بر حضور چروک های اکسید گرافن خط های پولیش زیرلایه را نیز نشان می داد که موید ضخامت بسیار پایین این پوشش ها و اسکن موفولوژی زیرلایه توسط آنها است. نتایج طیف سنجی رامان موید حضور اکسید گرافن بر سطح زیرلایه مس بود. به علاوه، افزایش نسبت G/IDI در پوشش های حاصل از هر دو حمام نسبت به پودر اکسید گرافن موید افزایش عیوب ساختاری اکسید گرافن در حین پوشش دهی است. نتایج آزمون پلاریزاسیون تافل نشان داد که پوشش های نازک اکسید گرافن حاصل از حمام بازی می توانند دانسیته جریان خوردگی را تا 12 برابر نسبت به مس بدون پوشش کاهش در حالی که پوشش های ضخیم حاصل از حمام اسیدی کاهش قابل توجهی در دانسیته جریان خوردگی نداشته و در برخی موارد حتی منجر به افزایش نرخ خوردگی شدند که ناشی از فصل مشترک ضعیف این پوشش ها و در نتیجه تسهیل شرایط خوردگی گالوانیکی است.

کلیدواژه ها:

اکسید گرافن ، زیرلایه مس ، پوشش دهی الکتروفورتیک ، آزمون پلاریزاسیون تافل