ساخت پوشش سیلیکای ضدبازتاب خودتمیزشونده

شیشه های محافظ در صفحه های خورشیدی به منظور کاهش بازتاب با پوشش های ضد بازتاب پوشش داده می شوند. پوشش های ضد بازتاب بر روی شیشه می تواند بازتاب را کاهش دهد، اما عملکرد این پوشش ها به دلیل تجمع گردوغبار بر سطح صفحه های خورشیدی کاهش می یابد. به همین دلیل این تحقیق با هدف تهیه پوشش ضدبازتاب فوق آبگریز که دارای خواص کاهش بازتاب و خود تمیز شوندگی می باشد انجام شد. بدین منظور پوشش سیلیکا با استفاده از روش غوطه وری بر سطح شیشه لایه نشانی و سپس توسط CTMS اصلاح شد. مشخصه یابی پوشش ها با استفاده از روش های طیف سنجی بازتاب کلی تضعیف شده تبدیل فوریه مادون قرمز، طیف سنجی نوری، میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی و میکروسکوپ نیروی اتمی انجام شد. خواص فوق آبگریزی نمونه ها توسط اندازه گیری زاویه تماس آب بررسی شد. سپس آزمون خود تمیز شوندگی بر روی پوشش ها انجام گرفت. پوشش سیلیکای اصلاح شده با CTMS با زاویه تماس بالاتر از 150 درجه و زاویه لغزش کمتر از 10 درجه برای تمیز کردن گرد و غبار با قطرات آب بسیار کارامد است. طیف عبور شیشه پوشش داده شده با سیلیکای اصلاح شده با CTMS نشان داد که مقدار عبور تا 95 درصد افزایش یافته است. نتایج نشان می دهد که استفاده از پوشش سیلیکای اصلاح شده با CTMS به عنوان پوشش ضد بازتاب خود تمیز شونده در کاهش هزینه های نگه داری دستگاه های فتوولتائیک و جلوگیری از کاهش بازده صفحه های خورشیدی از طریق کاهش تجمع گردوغبار بر روی سطوح بسیار مفید است.

کلیدواژه ها:

پوشش سیلیکا ، خود تمیز شوندگی ، خواص اپتیکی ، صفحه خورشیدی ، فوق آبگریزی