اثر لیزر ArF بر آبدوستی غشاء پلی اترسولفون
- سال انتشار: 1393
- محل انتشار: کنفرانس فیزیک ایران 1393
- کد COI اختصاصی: IPC93_102
- زبان مقاله: فارسی
- تعداد مشاهده: 529
نویسندگان
دانشکده فیزیک دانشگاه علم و صنعت ایران، تهران
پژوهشگاه پلیمر و پتروشیمی ایران
دانشکده فیزیک دانشگاه علم و صنعت ایران، تهران
پژوهشکده لیزر و اپتیک، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای، انتهای کارگر شمالی، تهران
چکیده
در این مقاله به بررسی اثر لیزر ArF بر اصلاح آبدوستی سطح غشاء پلیاترسولفون پرداخته شده و نشان داده شده است که با تابش تعداد 45، 1000 و 2000 پالس در شاریدگی10mJ/cm2 زاویه تماس قطره آب با سطح غشاء به میزان زیادی کاهش یافته و در نتیجه آبدوستی افزایش یافته است. با توجه به تفاوت حدود 2 درجه در زاویه تماس قطره روی سطح در تعداد 1000 و 2000 پالس در این شاریدگی، تعداد 1000 پالس ( با هزینه کمتر) که در آن زاویه تماس قطره به 44/2 رسیده است به عنوان بهینه در نظر گرفته میشود.کلیدواژه ها
مقالات مرتبط جدید
- بررسی اثرات انتشار امواج لرزه ای در سازههای قاب خمشی دسته شده و هگزاگرید دارای پارامتر سختی یکسان
- شناسایی آزمایشگاهی ترک طولی تراورس بتنی پیش تنیده با استفاده از تست مودال تجربی
- Investigation of Transmission Loss and Absorptioncoefficient of the PU Composite Panels forConstruction Application
- Comprehensive Analysis of the Effect of Polyisobutyl-ene (PIB) Molecular Weight on Damping Properties of Butyl-Based Constrained Layer Damping Systems
- REVIEWING THE OBERST BEAM METHOD AND ITS AP-PLICATION IN CONSTRAINED LAYER DAMPING FOR AUTOMOTIVE NOISE, VIBRATION, AND HARSHNESS (NVH) CONTROL
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.