اثر تابش لیزر XeCl بر ساختار و مورفولوژی غشاء پلی اترسولفون
- سال انتشار: 1393
- محل انتشار: کنفرانس فیزیک ایران 1393
- کد COI اختصاصی: IPC93_097
- زبان مقاله: فارسی
- تعداد مشاهده: 454
نویسندگان
دانشکده فیزیک دانشگاه علم و صنعت ایران، تهران
چکیده
در این مقاله به بررسی اثر لیزر XeCl روی ساختار سطحی و مورفولوژی غشاء پلیمری پلی اتر سولفون پرداخته شده است. نتایج بدست آمده نشان میدهد که با تغییر پارامترهای لیزر از جمله تعداد پالس و شاریدگی، میتوان حفره های کنترل شدهای روی سطح ایجاد کرد و سطح غشاء را برای کاربردهایی چون میکروفیلتراسیون ذرات مختلف، همودیالیز خون و نیز به عنوان بستری برای کشت انواع سلولهای زیستی، بهینه کرد.کلیدواژه ها
مقالات مرتبط جدید
- بررسی اثرات انتشار امواج لرزه ای در سازههای قاب خمشی دسته شده و هگزاگرید دارای پارامتر سختی یکسان
- شناسایی آزمایشگاهی ترک طولی تراورس بتنی پیش تنیده با استفاده از تست مودال تجربی
- Investigation of Transmission Loss and Absorptioncoefficient of the PU Composite Panels forConstruction Application
- Comprehensive Analysis of the Effect of Polyisobutyl-ene (PIB) Molecular Weight on Damping Properties of Butyl-Based Constrained Layer Damping Systems
- REVIEWING THE OBERST BEAM METHOD AND ITS AP-PLICATION IN CONSTRAINED LAYER DAMPING FOR AUTOMOTIVE NOISE, VIBRATION, AND HARSHNESS (NVH) CONTROL
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.