Nanostructure study of electrodeposited Co-Cu/Cu multilayer films in presence of KCl
- سال انتشار: 1386
- محل انتشار: دومین کنفرانس نانوساختارها
- کد COI اختصاصی: CNS02_110
- زبان مقاله: انگلیسی
- تعداد مشاهده: 1371
نویسندگان
Department of physics, Shahid Chamran University
چکیده
Electrodeposited Co-Cu/Cu multilayers were potentiostatically prepared from a sulphate bath with and without KCl as an additive. The cyclic voltagram (CV) curves of the electrolyte for both cases were depicted and analyzed. The nanostructure of the deposits was studied by X-ray diffractometer (XRD) and scanning electron microscope (SEM). The XRD and SEM results showed that the grain size of the deposits and the degree of orientations decreases with increase of KCl. Thus it has been concluded that the adsorption of chloride, the formation of copper (I) intermediate, the change in the deposition mechanism, and the increase in nucleation rate all contribute to enhancement of a structural disorder.کلیدواژه ها
Electrodeposition; Co-Cu/Cu; multilayer; SEM; XRDمقالات مرتبط جدید
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.