سنتز نانوکامپوزیت گرافن اکسید-پلی سیتریک اسید- Ce0.5Mn0.5Fe2O4 و کاربرد آن به عنوان عامل کنتراست در تصویربرداری تشدید مغناطیسی

در این کار سنتز نانوکامپوزیت گرافن اکسید - پلی سیتریک اسید Ce0.5Mn0.5Fe2O4 با استفاده از یک روش ساده و کاربرد آن به عنوان عامل کنترا ست منفی در تصویربرداری تشدید مغناطیسی (MRI) مورد بررسی قرار گرفته است. گرافن اکسید (GO) با روش میلدی تهیه شد و با سیتریک اسید (CA) پلیمری شد تا GO-PCA تولید شود. نانو ذرات Ce0.5Mn0.5Fe2O4 با روش هم رسوبی سنتز شد که گستره اندازه ذرات بین 25 تا 40 نانومتر و اشباع مغناطیسی (Ms) آن 53/6emu g-1 بود. نانو ذارت بر روی GO-PCA قرار گرفتند تا نانوکامپوزیت Ce0.5Mn0.5Fe2O4/GO-PCA تولید شود که این نانوکامپوزیت پایداری عالی، پراکندگی زیاد و خواص سوپرپارامغناطیسی با Ms برابر 47/8emu g-1 نشان داد. مطالعه برون تنی برداشت سلولی با استفاده از سلول HeLa مقدار کافی و مناسب برداشت سلولی را نشان داد کاربرد زیست پزشکی این نانوکامپوزیت را امکان پذیر می کند. این نانوکامپویت اثر افزایش کنتراست قابل توجهی در تصاویر وزن دهی T2 و *T2 داشت که مقادیر r2 و *r2 به ترتیب برابر 109/15 و 180/23mM-1s-1 در 3/0T بود.

کلیدواژه ها:

نانو کامپوزیت گرافن اکسید –پلی سیتریک اسید Ce0.5Mn0.5Fe2O4 ، تصویربرداری تشدید مغناطیسی ، عامل کنتراست ، تصاویر وزن دهی T2