Silicon nano-grass and nanowires on silicon substrates using high precision reactive ion etching
- سال انتشار: 1388
- محل انتشار: سومین کنفرانس نانوساختارها
- کد COI اختصاصی: CNS03_286
- زبان مقاله: انگلیسی
- تعداد مشاهده: 2062
نویسندگان
Thin Film and Nanoelectronic lab, School of Electrical and Computer Eng, University of Tehran, Iran
چکیده
We report the evolution of nano-grass and nano-wires on silicon substrates using a novel high precision hydrogenation-assisted reactive ion etching (RIE). The formation of Si nano-grass and nano-wires in desired locations and features is possible using photolithography combined with a sequential chromium deposition and RIE removal of the silicon surface. The wetting angle of the processed silicon has been measured and compared with a bare silicon surface. It has been observed that the inclusion of the nano-grass at the surface of silicon converts it into a hydrophilic material which could be used for liquid-based acceleration and inclination sensors. Also the treated surface has been examined with oil contamination further evidencing its wetting ability.کلیدواژه ها
“silicon nano grass”; “Black silicon”; “Hyrogen assisted Reactive Ion Etching”; “Wetting angle”مقالات مرتبط جدید
- توسعه آلیاژ چهارتایی پایه روی و بررسی ریزساختار در حالت های مختلف میکروسکوپ الکترونی روبشی ( SE و BSE)
- اصول نرم شدن در مواد تغییر شکل یافته به کمک عملیات اولتراسونیک
- ۳D Flow Simulation Inside a Desuperheater
- چرخه عمر فعالیت های اکتشافی و بهره برداری معدن سرب و روی انگوران زنجان با استفاده از روش بیزین
- The effect of welding current on dilution and geometry of coated High Entropy on Ductile Cast Iron substrate
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.