طراحی و سنتز پوشش آبگریز با استفاده از پلی سولفون و نانو ذرات اصلاح شده ZnO

در این پژوهش اصلاح نانو پوشش روی اکسید با استفاده از پلی سولفون مورد مطالعه قرار گرفت. نتایج حاصل از مورفولوژی سطح حاکی از پوشش دهی و زبری مناسب سطح بسترها به دنبال افزایش بازه زمانی غوطه ور شدن بستر ها در نانوذرات اصلاح شده روی اکسید است. نتایج طیف سنجی FTIR به وضوح نشان دهنده حضور سطوح شیمیایى اصلاح شده در فیلم آب گریز تهیه شده در بازه زمانی 72 ساعت است. مقادیر اندازه گیری شده زاویه قطرات آب بر روی نمونه های مورد مطالعه ضمن تایید نتایج مورفولوژی سطح، نشان داد که با افزایش بازه زمانی پوشش دهی سطح بستر، زاویه قطرات آب با سطح از 90 تا 118.1 درجه تغییر کرده است و در بازه زمانی 72 ساعت به بیشترین مقدار خود رسیده است.

کلیدواژه ها:

روی اکسید ، پلی سولفون ، آب گریز ، خود تمیز شوندگی