تاثیر فرآیند عملیات سطحی با لیزر بر روی مقاومت به خوردگی پوشش Ni-Cr-Alاعمال شده به روش HVOF بر روی آلیاژ تیتانیم
- سال انتشار: 1396
- محل انتشار: هجدهمین کنفرانس ملی جوش و بازرسی و هفتمین کنفرانس ملی آزمایشهای غیر مخرب
- کد COI اختصاصی: INCWI18_088
- زبان مقاله: فارسی
- تعداد مشاهده: 574
نویسندگان
استادیار گروه مهندسی مواد و متالورژی ، دانشکده فنی و مهندسی ، دانشگاه اراک
استادیار گروه مهندسی مواد و متالورژی ، دانشکده فنی و مهندسی ، دانشگاه اراک
دانشجوی کارشناسی مهندسی مواد و متالورژی – متالورژی صنعتی ، دانشکده فنی و مهندسی ، دانشگاه اراک
دانشجوی کارشناسی مهندسی مواد و متالورژی – متالورژی صنعتی ، دانشکده فنی و مهندسی ، دانشگاه اراک
چکیده
در این تحقیق اثر عملیات لیزر بر روی سطح پوشش Ni-Cr-Al اعمال شده به روش پاشش حرارتی بر روی آلیاژ تیتانیم خالص صنعتی مورد بررسی قرار گرفته است. نتایج نشان می دهد که ذوب سطحی پوشش با استفاده از لیزر منجر به بهبود خواص مقاومتی پوشش می شود. بررسی اکسیداسیون در دمای 1100 درجه سانتیگراد در هوا نشان داد که فرآیند لیزر سبب افزایش مقاومت به اکسیداسیون پوشش شده است. همچنین مشاهده گردید که با اعمال لیزر مقاومت به خوردگی الکترولیتی پوشش نیز در محلول 3/5 درصد وزنی NaCl بیشتر شده است. علت بهبود مقاومت اکسیداسیون و خوردگی پوشش با اعمال عملیات لیزر می تواند به دلیل کاهش حفرات و عیوب پوشش باشد.کلیدواژه ها
پوشش NiCrAl، HVOF، اکسیداسیون، خوردگیمقالات مرتبط جدید
- طبقه بندی تومورهای مغزی از تصاویر MRI با شبکه کانولوشن و روش های آموزش انتقال
- افزایش راندمان یک مبدل ترکیبی توان بالا با استفاده از تکنیک ZCT در عملیات سوئیچینگ نرم
- GNRFET-based Voltage Controlled Ring Oscillator Using GDI NAND Gate
- مقابله با اثرات جدا شدنی ناگهانی توربین گازی از شبکه سراسری، با استفاده از سیستم فازی ریزش بار بر پایه شبکه عصبی
- پیاده سازی الگوریتم دومینو برای حل مسائل بهینه سازی عمومی
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.