بررسی تاثیر تغییرات ولتاژ بر روی قطر حفرات تمپلیت های AAO در رسوبدهی الکتروشیمیایی نانوسیم های کبالت

  • سال انتشار: 1396
  • محل انتشار: چهارمین کنفرانس بین المللی یافته های نوین علوم و تکنولوژی
  • کد COI اختصاصی: DSCONF04_043
  • زبان مقاله: فارسی
  • تعداد مشاهده: 552
دانلود فایل این مقاله

نویسندگان

لیلا آبادی مرند

دانشجوی کارشناسی ارشد، دانشکده مواد، دانشگاه صنعتی سهند

فرزاد نصیرپوری

دانشیار، دانشکده مواد، دانشگاه صنعتی سهند

چکیده

مهمترین نانوساختارهای تک بعدی، نانوسیم ها محسوب میشوند. نانوسیمها با نسبت طول به قطر بالا، خواص حرارتی، مکانیکی، نوری، الکتریکی و مغناطیسی بینظیری از خود نشان میدهند. مزیت اصلی نانوسیمها نسبت طول به قطر بزرگ، انعطاف پذیری و ساختار فوق العاده آنها است که اجازه استفاده را در شکلهای متعدد مطابق با نیازهای طراحی شده میدهد. رسوبدهی الکتروشیمیایی با استفاده از جریان متناوب یکی از روشهای مهم جهت ایجاد نانوسیمها در داخل تمپلیت اکسید آندی آلومینیوم (AAO) بوده که به دلیل حضور لایه مانع در انتهای حفرات است. در این مطالعه تاثیر ولتاژ های 20، 40 و 160 به ترتیب در الکترولیتهای اسید سولفوریک، اسید اگزالیک و اسید فسفریک بر روی تغییرات قطر تمپلیتهای اکسید آلومینیوم مورد بررسی قرار گرفته است. طی نتایج حاصل شده با قرار گرفتن آلومینیوم به عنوان آند در داخل الکترولیت مناسب، با افزایش ولتاژ و به طبع آن افزایش دانسیته جریان فاصله بین ترکهای ایجاد شده بر روی لایه اکسیدی بیشتر شده و در نتیجه گذشت زمان و انجام مراحل رشد، افزایش قطر حفره ها از 24 نانومتر در اسید سولفوریک به 34 میکرومتر در اسید فسفریک مشاهده میگردد. بنابراین قطر حفره ها با افزایش ولتاژ آندایزینگ بزرگتر میشود.

کلیدواژه ها

تمپلیت اکسید آلومینیوم منظم، نانوسیم، کبالت، رسوبدهی الکتروشیمیایی متناوب، ولتاژ

مقالات مرتبط جدید

اطلاعات بیشتر در مورد COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.