CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)

سنتز نانوذرات مس/اکسید مس به روش تخلیه الکتریکی وبررسی خاصیت فتوکاتالیستی آن

عنوان مقاله: سنتز نانوذرات مس/اکسید مس به روش تخلیه الکتریکی وبررسی خاصیت فتوکاتالیستی آن
شناسه ملی مقاله: MCIS03_069
منتشر شده در سومین کنفرانس ملی مهندسی مواد، مهندسی شیمی و ایمنی صنعتی در سال 1396
مشخصات نویسندگان مقاله:

غلامرضا حیدری - استادیار،مجتمع آموزش عالی فنی مهندسی اسفراین
مرتضی فراشیانی - دانشجو، مجتمع آموزش عالی فنی مهندسی اسفراین

خلاصه مقاله:
استفاده از نانوذرات در علوم و صنایع مختلف بواسطه ایجاد خواص منحصر به فرد مورد توجه واقع شده است. حذف آلودگی با استفاده از فتوکاتالیست یکی از زمینه هایی است که بکارگیری نانوذرات در آن جهت بهبود کارایی مورد توجه واقع شده است. در این تحقیق نانوذرات مس/اکسید مس با استفاده از روش تخلیه الکتریکی ایجاد شده است. الگوی تفرق اشعه ایکس بیانگر وجود دو فاز مس و اکسید مس می باشد. تصویر میکروسکوپ الکترونی عبوری نشان دهنده ابعاد ذرات در محدوده کمتر از nm 50 می باشد. به منظور حذف آلودگی از متیلن بلو به عنوان مدل آلودگی استفاده گردید که تابش یک لامپ زنون 50 واتی در حضور 3 میلیگرم نانوذره و یک قطره H2O2 منجر به تخریب 98% آن در مدت 140 دقیقه شد.

کلمات کلیدی:
نانوذره، مس/اکسید مس، فتوکاتالیست، متیلن بلو

صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/700487/