مطالعات تغییرات نانو ساختاری زیرلایه های سیلیکونی با تغییرات دزکاشت یون هیدروژن
- سال انتشار: 1387
- محل انتشار: نهمین کنفرانس ماده چگال
- کد COI اختصاصی: CMC09_114
- زبان مقاله: فارسی
- تعداد مشاهده: 1101
نویسندگان
مرکز تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی ، سازمان انرژی اتمی ، کرج و دانشکده
مرکز تحقیقات کشاورزی، پزشکی و صنعتی ، سازمان انرژی اتمی
دانشکده علوم پایه،دانشگاه بین المللی امام خمینی قزوین
چکیده
در این تحقیق، اثر دز کاشت هیدروژن با انرژی 70keV برخواص میکروونانو ساختاری (400) Si بررسی شده است. نمونه ها در دمای 850 درجه سانتیگراد در یک کوره خلاءبه فشار torr 10-5 به مدت 2ساعت بازپخت شدند. آنالیزهای پراش اشعه ایکس (XRD) و طیف نمایی تبدیل فوریه مادون قرمز (FTIR) ومیکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) انجام شده اند تا ساختار نمونه های تابیده شده مطالعه شوند. بر طبق نتایج ما،غلظت هیدروژن با افزایش دز کاشت، افزایش وبا بازپخت، بدلیل فرار هیدروژن بخاطر ایجاد تاول های شکافته شده در سطح سیلیکون، کاهش می یابد.کلیدواژه ها
مقالات مرتبط جدید
- Analytical determination of flexural rigidity of thin-walled pultruded composite I-beams
- Matrix-Dominated Damage Process in CFRP Composite Laminates underFlexural Loading Condition
- Indentation Size Scale Effect on Mechanical Properties of Cold SprayCoating
- Determination of Forming Limit Diagrams for Tailor Welded Blanks
- Control of dynamic building façade: design, analysis and experiments
اطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.