مقاومت در برابر خوردگی مس در محلول اسید نیتریک هوادزدایی شده با پوشششیف باز
- سال انتشار: 1395
- محل انتشار: اولین همایش بین المللی افق های نوین در علوم پایه و فنی و مهندسی
- کد COI اختصاصی: THCONF01_191
- زبان مقاله: فارسی
- تعداد مشاهده: 587
نویسندگان
مرکز تحقیقات مواد پیشرفته، دانشکده مهندسی مواد، واحد نجف آباد، دانشگاه آزاد اسلامی، نجف آباد، ایران
مرکز تحقیقات مواد پیشرفته، دانشکده مهندسی مواد، واحد نجف آباد، دانشگاه آزاد اسلامی، نجف آباد، ایران
مرکز تحقیقات مواد پیشرفته، دانشکده مهندسی مواد، واحد نجف آباد، دانشگاه آزاد اسلامی، نجف آباد، ایران
چکیده
در این تحقیق، شیف باز سالپن N-N بیس سالیسیدن -1 و -3 دی آمینو پروپان به صورت لایههای نازک خود مجموعه ساز به منظور حفاظت در برابر خوردگی مس در محیط هوادزدایی شده اسید نیتریک یک مولار استفاده شده است. نتایج آزمایشگاهی بدست آمده از روشهای پلاریزاسیون و طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیایی نشان داد که این لایههای نازک خود مجموعه ساز میتوانند حفاظت خوبی در برابر خوردگی مس در محیط اسید نیتریک یک مولار داشته و عملکرد پوششهای فوق از نوع مختلط میباشد. پلاریزاسیون برای ارزیابی ممانعتکنندگی خوردگی در غلظتهای مختلف برای مس در محیط اسید نیتریک یک مولار استفاده شد که نشان دهنده حداکثر راندمان بازدارندگی 94/03% برای لایههای نازک خودمجموعه ساز شیف باز سالپن N-N بیس سالیسیدن -1 و -3 دی آمینو پروپان بدست آمد.کلیدواژه ها
خوردگی، فیلم لایه نازک ، شیف باز سالپن، امپدانس الکتروشیمیاییاطلاعات بیشتر در مورد COI
COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.