A Novel Photoresist Composition based on Multifunctional Methacrylate Monomers for UV Lithography

سال انتشار: 1393
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 666

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ISPST11_391

تاریخ نمایه سازی: 6 اردیبهشت 1396

چکیده مقاله:

In this work a novel UV photoresist material containing multifunctional methacrylate monomers has been introduced. The UV lithographic procedure via a photopolymerization of bis-GMA, TEGDMA and HEMA at room temperature was carried out by using 2, 2-dimethoxy-2-phenyl acetophenone, as a photoinitiator. Thesethree monomers were mixed with an initiator and then exposed to UV light. The resulting features were investigated by a scanning electron microscopy (SEM). The obtained results from micrograph images showed that the features including a series of pillars with micrometric size in diameters and heights. It can be concluded that this novel material was an appropriate candidate as a UV photoresist because of its capability to cure by UV light and solidify in shape of micrometric patterns as a composite mask

نویسندگان

maryam Tabatabaei

Polymer Department, School of Chemical Engineering, College of Engineering, University of Tehran, Tehran, Iran

amirali ebadi

School of Electrical and Computer Engineering, College of Engineering, University of Tehran, Tehran, Iran

mohsen hajari

School of Electrical and Computer Engineering, College of Engineering, University of Tehran, Tehran, Iran

mehrnoosh mahmoodian

School of Electrical and Computer Engineering, College of Engineering, University of Tehran, Tehran, Iran

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • Del Campo, A., Greiner, C., J. Micromech. Microeng., 17, 81-95, ...
  • Pereira, S. G., Osorio, R., Toledano, M., Cabrerizo -vilchez, M. ...
  • Podgorski, M., Dent. Mater., 28, 398-409, 2012. ...
  • نمایش کامل مراجع