Effect of voltage on the structure and electrical properties of direct current (DC) magnetron sputter-deposited copper films on glass substrate

سال انتشار: 1395
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 500

فایل این مقاله در 9 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

IMES10_040

تاریخ نمایه سازی: 6 اردیبهشت 1396

چکیده مقاله:

In the present study, 200-nm thick copper films are successfully deposited on glass substrate by direct current magnetron sputtering technique. The effect of the sputtering voltage (100 V - 300 V) on the structure and electrical properties of the deposited films are studied. The composition, morphology and structure of the films are investigated by energy dispersive x-ray spectroscopy (EDAX), scanning electron microscopy (SEM) and X-ray diffraction (XRD) analysis, respectively. The results show that the crystallinity of the films increases pronouncedly as the sputtering voltage increases from 100 V to 150V. At all sputtering voltages; the films grow with their {111} planes parallel to the film surface. Higher voltages favor directional growth but the preferred {111} growth direction remains the same. The resistivity of the films sharply decreases at the voltage of 100V. Further increase in the voltage results in a slight decreasing trend in resistivity and at the voltage of 300V the resistivity reaches the value of 4.6125 Ω/sq.

کلیدواژه ها:

Thin film ، Copper ، Direct current magnetron sputtering ، Voltage ، Structure ، Electrical conductivity

نویسندگان

Sedigheh Pirsalami

Ph.D. student, Materials Engineering Department of Materials Science and Engineering, School of Engineering, Shiraz University, Shiraz, Iran

Seyyed Mojtaba Zebarjad

Professor, Materials Engineering Department of Materials Science and Engineering, School of Engineering, Shiraz University, Shiraz, Iran

Habib Daneshmanesh

Professor, Materials Engineering Department of Materials Science and Engineering, School of Engineering, Shiraz University, Shiraz, Iran

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • پنجمین کنفرنس بین لمللی مهندسی _ ومتلویی ودهمین کنففنس مشترکفجمن ...
  • K.-Y. Chan, T.-Y. Tou, and B.-S. Teo, "Thickness dependence of ...
  • A. Augustin, K. R. Udupa, and U. B. K, "Effect ...
  • T. He, A. Xie, D. H. Reneker, and Y. Zhu, ...
  • P. C. Hsu, D. Kong, S. Wang, H. Wang, A. ...
  • S. An, H. S. Jo, D.-Y. Kim, H. J. Lee, ...
  • Z. Li, A. Rahtu, and R. G. Gordon, "Atomic Layer ...
  • M.-T. Le, Y.-U. Sohn, J.-W. Lim, and G.-S. Choi, "Effect ...
  • K. Ellmer, "Magnetron sputtering of transparent conductive zinc oxide: relation ...
  • K. Mech, R. Kowalik, and P.Zabihski, _ Thin Films Deposited ...
  • , 9 Nov. 2016 Shiraz University ...
  • , 9 Nov. 2016 Shiraz University ...
  • J.-W. Lim, K. Mimura, and M. Isshiki, "Thickness dependence of ...
  • نمایش کامل مراجع