نشانش لایه های نازک اکسید فلزی بر روی زیرپایه های سیلیکا به روش تبخیر فیزیکی در خلأ

سال انتشار: 1386
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,379

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

NCV03_012

تاریخ نمایه سازی: 1 شهریور 1387

چکیده مقاله:

لایه های اکسید قلع و اکسید روی به روش تبخیر با باریکه الکترونی در خلأ، بر روی زیرپایه های سیلیکا نشانده شدند. فشار محفظه 10 به توان 5- Torr بود و زیرپایه ها در دمای اتاق قرار داشتند. لایه های اکسید قلع حاصل شفاف و زرد رنگ بوده چسبندگی خوبی به زیرپایه داشتند. مطالعات بعدی نشان داد که این لایه ها ساختاری آمورف دارند. تبلور لایه های اکسید قلع در دو محیط اکسیژن و ازت در دماهای متفاوت صورت گرفت. در همه موارد فرآیند تبلور در محیط حاوی اکسیژن بیشتر، سریعتر بود. این مورد بر اساس کمبود اکسیژن از مقدار استوکیومتریک آن در ترکیب لایه توضیح داده شد. تبخیر اکسید روی به روش مشابه، لایه های سیاه رنگی متشکل از ذرات روی را نتیجه داد که نتیجه ضعیفی با زیرپایه داشتند. از این رو کنترل فشار اکسیژن در محفظه خلأ طی لایه نشانی ضروری بود. سعی و خطا در این خصوص به علت عدم کنترل دقیق فشار اکسیژن نتیجه مثبتی نداشت.

نویسندگان

سید محسن حسینی گلگو

گروه الکترونیک دانشگاه صنعتی خواجه نصیرالدین طوسی

احسان شکوهمند

گروه الکترونیک دانشگاه صنعتی خواجه نصیرالدین طوسی

رضا افضل زاده

گروه فیزیک دانشگاه صنعتی خواج هنصیرالدین طوسی

فرامرز حسین بابایی

گروه الکترونیک دانشگاه صنعتی خواجه نصیرالدین طوسی