A mixed lithography method for Patterning sub-micron interdigitated electrodes

سال انتشار: 1395
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 470

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ICEECET03_021

تاریخ نمایه سازی: 6 اسفند 1395

چکیده مقاله:

In this work we offered a method to design electrochemical biosensors by shrinking down the size of interdigitated electrodes and in the meantime saving or increasing the number of electrodes. Using this method we can design a lab on a chip device which can sense multiple analytes simultaneously in the same sensor sizes as traditional sensors. These nano interdigitated electrodes can also be used in contacting nanoribbons of graphene for Tera hertz and optical applications[5].A two level lithography which contains both photolilthography and electron beam lithography (EBL) seems to be a wise choice because EBL is a slow and limited method for patterning large areas and photolithography is suitable for large scales but limited in sub-micron features.

نویسندگان

A Alikhani

Department of Electrical and Computer Engineering, University of Tehran, Tehran, Iran

M Fathollahzadeh

College of Chemistry, Institute for Advanced Studies in Basic Sciences, P.O. Box 45195-1159, Gava Zang, Zanjan, Iran

H Hajihosseini

Department of Electrical and Computer Engineering, University of Tehran, Tehran, Iran

M Fathipour

Department of Electrical and Computer Engineering, University of Tehran, Tehran, Iran