بهینه سازی پارامترهای پاشش حرارتی HVOF برای بهبود مقاومت به اکسیداسیون پوشش MCrAIY توسط روش سطح پاسخ

  • سال انتشار: 1395
  • محل انتشار: دومین کنفرانس ملی مکانیک - مواد و فناوری های پیشرفته
  • کد COI اختصاصی: MMAT02_055
  • زبان مقاله: فارسی
  • تعداد مشاهده: 810
دانلود فایل این مقاله

نویسندگان

مصطفی طهری

مربی مجتمع آموزش عالی فنی و مهندسی اسفراین

محمد حاتمی

استادیار مجتمع آموزش عالی فنی و مهندسی اسفراین اسفراین ایران

علی قربانیان

مربی مجتمع آموزش عالی فنی و مهندسی اسفراین

چکیده

دراین پژوهش به بررسی اثرپارامترهای مختلف فرایند پوشش دهی برخواص نهایی پوششهای پاشش حرارتی بدست آمده ازروش HVOF پرداخته شدها ست بدین منظور بااستفاده ازفرایند پاسخ سطح برای چهارپارامتر تاثیرگذار فرایند HVOF که شامل نرخ تزریق سوخت نزخ تزریق اکسیژننرخ تزریق پودر و فاصله پاشش پنج سطح مختلف درنظر گرفته شد و پاسخ های حداقل تخلخل و حداقل ضخامت لایه اکسیدی به عنوان عوامل بهینه کننده انتخاب گردید به منظور بررسی ریزساختار پوشش ها ضخامت لایه اکسیدی و تخلخل سنجی ازمیکروسکوپا لکترونی و روش انالیز تصویری استفاده شد ازمون اکسیداسیون دردمای 1100 درجه سانتیگراد و بهمدت 50ساعت برروی نمونه های پوشش داده شده انجام شد نتایج نشان داد که پارامترهای نرخ تزریق اکسیژن ونرخ تزریق پودر نزخ تزریق سوخت و نرخ تزریق پودر و همچنین نرخ تزریق پودر و فاصله پاشش بصورت دوبه دوداری اثرمتقابل برروی یکدیگر درمیزان ضخامت لایه اکسیدی می باشند همچنین برخلاف دیگرعوامل که تاثیر متقابل زیادی برروی تخلخل پوشش ها نداشتند دوعامل نرخ تزریق اکسیژن و نرخ پودر و همچنین نرخ تزریق سوخت و نرخ تزریق پودرتقابل بسیاراندکی برمیزان تخلخل دارند

کلیدواژه ها

اکسیداسیون دمای بالا ، پاشش حرارتی ، روش سطح پاسخ ، MCrAlY

مقالات مرتبط جدید

اطلاعات بیشتر در مورد COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.