بررسی لیتوگرافی و اچینگ در طراحی نیمه هادی های با کیفیت بهتر

سال انتشار: 1395
محل انتشار: دومین کنفرانس بین المللی یافته های نوین پژوهشی در مهندسی برق و علوم کامپیوتر
کد COI اختصاصی: COMCONF02_217
زبان مقاله: فارسی
تعداد مشاهده: 1635

نویسندگان

عضو هیئت علمی دانشگاه پیام نور

دانشجوی کارشناسی ارشد شده الکترونیک دانشگاه پیام نور تهران - تهران شمال

چکیده

برای تولید مدار مجتمع از فیلم های باریک با مواد مختلف، به عنوان لایه های محافظ جهت افزودن و یا کشت اتم های ناخالصی و یا به عنوان عایق عیان مواد رسانا و سیلیکون زیر لایه استفاده می شود و ماسک ها شامل الگویی از پنجره هایی هستند که تحت فرایندی که فتولیتوگرافی خوانده می شود به روی سطح سیلیکون منتقل می شوند.فتولیتوگرافی تعام مراحل درگیر در انتقال الگو از یک ماسک برروی سطح سیلیکون و بیقرراداراعی باشد. یکی از شرایط و فرایند مهم تهیه و بیقرهای پاک در اتاق پاک و تمیز می باشد. پاکسازی و بفر خود به قتهایی یک قرایند دقیقی را طلب می کند. تمیزی سطح ویفر برای تنظیم ماسک جهت انجام پخت های نرم وسخت، ایجاد لایه محافظ بافتور زیست، تمیز کردن تعام پنجره ها، تابشی نور به فتور زیست،انجام مراحل مختلف اچینگ ودرنہایت حذف تمام فتور زیست هامی تواند مارادرطراحی ایک نیمه هاری خوب و با کیفیت بالاو هم چنین در تهیه یک عدار مجتمع قابل قبول و بهره برداری از آن برای پروژه های عظیم الکترونیکی یاری نماید. در صورت اجرای دقیق شرایط ۱۰گانه فرآیند لیتوگرافی یک نیمه هادی با کیفیت قابل قبول می توان ارائه داد.

کلیدواژه ها

لیتو گرافی. Etchingقتور زیست.Masksسیلیکون.WafeI.oxide.اتاق تمییز، فتوملک۔bakin

مقالات مرتبط جدید

اطلاعات بیشتر در مورد COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.