بررسی آزمایشگاهی تأثیر شدت میدان مغناطیسی بر ضریب کشش سطحی نانو سیال Al2O3

  • سال انتشار: 1393
  • محل انتشار: اولین کنفرانس ملی نفت،گاز پتروشیمی و توسعه پایدار
  • کد COI اختصاصی: OGPCONF01_067
  • زبان مقاله: فارسی
  • تعداد مشاهده: 487
دانلود فایل این مقاله

نویسندگان

عزالدین سیفی

دانشجوی کارشناسی ارشد، دانشگاه آزاد اسلامی واحد شهرضا، گروه مهندسی شیمی

اسدالله ملک زاده

دانشجوی کارشناسی ارشد، دانشگاه آزاد اسلامی واحد شهرضا، گروه مهندسی شیمی

چکیده

نانو سیال به محلول سوسپانسیونی اطلاق می شود که در آن ذرات فوق العاده ریز )کوچک تر از یکصد نانو متر( در سیالی خالص به حالت تعلیق در آورده شده باشد. این نانو ذرات از جنس فلز و یا اکسید فلزات و اغلب کروی شکل ویا استوانه ای هستند. این سوسپانسیون ها سری جدیدی از سیالات واسط حرارتی هستند که از معلق ساختن ذرات بسیار ریز در مایعات متداول مانند آب و اتیلن گلیکول به دست آمده اند و عملکرد حرارتی سیالات پایه را افزایشمی دهند. کشش سطحی ویژگی ای در مایعات است که باعث می شود لایه بیرونی آن ها به صورت ورقه ای کشسان عمل کند . در این جا نیز به بررسی تأثیری که میدان مغناطیسی بر روی کشش سطحی نانو سیال Fe3O4 می گذارد پرداخته می شود

کلیدواژه ها

میدان مغناطیسی، نانو سیال، سوسپانسیون، اتیلن گلیکول

مقالات مرتبط جدید

اطلاعات بیشتر در مورد COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.

کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.